照明光学装置、曝光装置以及元件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200780010452.6

申请日：

2007-03-15

公开(公告)号：

CN101410946A

公开(公告)日：

2009-04-15

发明(设计)人：

田中裕久

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

H01L21027

IPC分类号：

G02B1514 G02B1900 G03F720

代理机构：

北京中原华和知识产权代理有限责任公司

代理人：

寿宁

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-04-15	公开	公开
2009-06-10	实质审查的生效	实质审查的生效
2013-01-16	授权	授权

共 50 条

[1]

照明光学装置、曝光装置以及元件制造方法 [P].

田中裕久 .

中国专利 :CN102890425A ,2013-01-23

[2]

照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法 [P].

田中裕久 .

中国专利 :CN101681123B ,2010-03-24

[3]

照明光学系统、曝光装置以及元件制造方法 [P].

田中裕久 .

中国专利 :CN101681125B ,2010-03-24

[4]

光学单元、照明光学装置、曝光装置、曝光方法以及元件制造方法 [P].

谷津修 .

中国专利 :CN101681120B ,2010-03-24

[5]

曝光方法、电子元件制造方法、曝光装置以及照明光学装置 [P].

市原裕 ;

中村绫子 ;

白石直正 ;

谷元昭一 ;

工藤祐司 .

中国专利 :CN101128917B ,2008-02-20

[6]

照明光学装置、曝光装置及元件制造方法 [P].

广田弘之 .

中国专利 :CN103149806A ,2013-06-12

[7]

照明光学装置、曝光装置及元件制造方法 [P].

广田弘之 .

中国专利 :CN101681117A ,2010-03-24

[8]

照明光学装置、曝光装置及元件制造方法 [P].

广田弘之 .

中国专利 :CN103149807A ,2013-06-12

[9]

照明光学装置、曝光装置和曝光方法 [P].

重松幸二 .

中国专利 :CN100536071C ,2007-07-25

[10]

曝光装置、照明光学系统以及元件制造方法 [P].

吉田亮平 ;

井田真高 ;

吉田大辅 ;

野嶋琢己 ;

松桥佑介 ;

渡辺畅章 .

中国专利 :CN113383275A ,2021-09-10

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