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电化学抛光用供液装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201911174041.1
申请日
:
2019-11-26
公开(公告)号
:
CN110923798A
公开(公告)日
:
2020-03-27
发明(设计)人
:
王勇
申请人
:
申请人地址
:
314000 浙江省嘉兴市南湖区勤俭路611号4幢304室
IPC主分类号
:
C25F316
IPC分类号
:
C25F700
代理机构
:
济南旌励知识产权代理事务所(普通合伙) 31310
代理人
:
王如意
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-03-27
公开
公开
2020-12-25
授权
授权
2020-04-21
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C25F 3/16 申请日:20191126
共 50 条
[1]
电化学抛光供液装置
[P].
代迎伟
论文数:
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0
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代迎伟
;
金一诺
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金一诺
;
王坚
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王坚
;
王晖
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王晖
.
中国专利
:CN105088328B
,2015-11-25
[2]
一种电化学抛光用供液装置
[P].
余秀谋
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机构:
东莞河谷自动化科技有限公司
东莞河谷自动化科技有限公司
余秀谋
.
中国专利
:CN220867567U
,2024-04-30
[3]
电化学抛光装置
[P].
庄维伟
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庄维伟
;
高永超
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高永超
;
程好
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程好
;
杨淑平
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杨淑平
;
蔡渊
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蔡渊
;
贺昱旻
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贺昱旻
.
中国专利
:CN203174217U
,2013-09-04
[4]
无应力电化学抛光用喷嘴
[P].
王坚
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王坚
;
金一诺
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金一诺
;
王晖
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王晖
.
中国专利
:CN104170064A
,2014-11-26
[5]
电化学抛光装置
[P].
向城
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向城
;
刁宇新
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刁宇新
;
叶知春
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叶知春
.
中国专利
:CN217839194U
,2022-11-18
[6]
电化学抛光装置
[P].
于丽
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于丽
.
中国专利
:CN216738622U
,2022-06-14
[7]
电化学抛光装置和方法
[P].
庄维伟
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庄维伟
;
高永超
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高永超
;
程好
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程好
;
杨淑平
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杨淑平
;
蔡渊
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蔡渊
;
贺昱旻
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贺昱旻
.
中国专利
:CN104032366A
,2014-09-10
[8]
电化学抛光用柔性电极及内腔结构电化学抛光方法
[P].
叶作彦
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叶作彦
;
叶敏恒
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叶敏恒
;
王利利
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王利利
;
潘金龙
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潘金龙
;
李晓媛
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李晓媛
;
王超
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王超
;
沈显峰
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沈显峰
.
中国专利
:CN113089073B
,2021-07-09
[9]
新型电化学抛光装置
[P].
贾照伟
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贾照伟
;
王坚
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王坚
;
王晖
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王晖
.
中国专利
:CN104894634A
,2015-09-09
[10]
一种电化学抛光电解液与电化学抛光方法
[P].
侯玉坤
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机构:
立铠精密科技(盐城)有限公司
立铠精密科技(盐城)有限公司
侯玉坤
;
王瑞
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机构:
立铠精密科技(盐城)有限公司
立铠精密科技(盐城)有限公司
王瑞
;
贾晓雅
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机构:
立铠精密科技(盐城)有限公司
立铠精密科技(盐城)有限公司
贾晓雅
;
董志毅
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机构:
立铠精密科技(盐城)有限公司
立铠精密科技(盐城)有限公司
董志毅
.
中国专利
:CN121065803A
,2025-12-05
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