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一种具有工件摆动装置的化学机械抛光设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202020554303.9
申请日
:
2020-04-14
公开(公告)号
:
CN211992443U
公开(公告)日
:
2020-11-24
发明(设计)人
:
朱文献
申请人
:
申请人地址
:
518000 广东省深圳市南山区桃源街道长源社区学苑大道1001号南山智园C3栋201
IPC主分类号
:
B24B3710
IPC分类号
:
B24B3730
B24B4716
B24B4712
B24B3734
代理机构
:
深圳市中科创为专利代理有限公司 44384
代理人
:
谭雪婷;梁炎芳
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-11-24
授权
授权
共 50 条
[1]
化学机械抛光设备及化学机械抛光方法
[P].
朱慧珑
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朱慧珑
;
钟汇才
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钟汇才
;
梁擎擎
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梁擎擎
;
赵超
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赵超
.
中国专利
:CN102756323A
,2012-10-31
[2]
化学机械抛光设备和化学机械抛光方法
[P].
唐强
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唐强
.
中国专利
:CN108115553A
,2018-06-05
[3]
化学机械抛光机及具有它的化学机械抛光设备
[P].
路新春
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路新春
;
许振杰
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许振杰
;
何永勇
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何永勇
;
王同庆
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王同庆
;
沈攀
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沈攀
;
赵德文
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赵德文
;
梅赫赓
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梅赫赓
;
张连清
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张连清
;
裴召辉
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裴召辉
;
雒建斌
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雒建斌
.
中国专利
:CN201833275U
,2011-05-18
[4]
化学机械抛光设备
[P].
裴城焄
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裴城焄
.
中国专利
:CN101238552A
,2008-08-06
[5]
化学机械抛光设备
[P].
请求不公布姓名
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机构:
江苏元夫半导体科技有限公司
江苏元夫半导体科技有限公司
请求不公布姓名
.
中国专利
:CN221621863U
,2024-08-30
[6]
化学机械抛光设备支撑结构及化学机械抛光设备
[P].
尹影
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尹影
;
李婷
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李婷
;
刘福强
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刘福强
;
贾若雨
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贾若雨
;
张为强
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张为强
.
中国专利
:CN109590896A
,2019-04-09
[7]
一种化学机械抛光装置及化学机械抛光设备
[P].
刘永进
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机构:
北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
刘永进
.
中国专利
:CN117564929A
,2024-02-20
[8]
化学机械抛光装置
[P].
金旻成
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金旻成
;
任桦爀
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任桦爀
;
董慜摄
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董慜摄
.
中国专利
:CN205009026U
,2016-02-03
[9]
化学机械抛光方法和化学机械抛光设备
[P].
邵群
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邵群
;
王庆玲
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王庆玲
.
中国专利
:CN103035504B
,2013-04-10
[10]
化学机械抛光工作台及化学机械抛光设备
[P].
尹影
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尹影
;
李婷
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李婷
;
刘福强
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刘福强
;
白琨
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白琨
;
费玖海
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费玖海
.
中国专利
:CN109500724A
,2019-03-22
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