变倍光学系统及光学设备

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202010632175.X
申请日
2015-08-28
公开(公告)号
CN111880295B
公开(公告)日
2020-11-03
发明(设计)人
柴田悟 幸岛知之
申请人
申请人地址
日本东京
IPC主分类号
G02B1514
IPC分类号
G02B1520
代理机构
中原信达知识产权代理有限责任公司 11219
代理人
季莹;方应星
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
山本浩史 .
中国专利 :CN114286959A ,2022-04-05
[2]
变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
町田幸介 .
日本专利 :CN120077312A ,2025-05-30
[3]
变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
幸岛知之 ;
斋藤悠马 .
日本专利 :CN118805114A ,2024-10-18
[4]
变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
籔本洋 .
中国专利 :CN114341697A ,2022-04-12
[5]
变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
籔本洋 .
中国专利 :CN114286960A ,2022-04-05
[6]
变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
町田幸介 ;
栗林知宪 .
日本专利 :CN120077311A ,2025-05-30
[7]
变倍光学系统、光学设备及变倍光学系统的制造方法 [P]. 
村谷真美 .
中国专利 :CN114375413A ,2022-04-19
[8]
变倍光学系统以及光学设备 [P]. 
大竹史哲 .
日本专利 :CN114868067B ,2024-03-22
[9]
变倍光学系统以及光学设备 [P]. 
籔本洋 .
日本专利 :CN118483813A ,2024-08-13
[10]
变倍光学系统以及光学设备 [P]. 
大竹史哲 ;
野中杏菜 .
中国专利 :CN113302533B ,2021-08-24