半导体器件的制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN98125269.9
申请日
1998-12-11
公开(公告)号
CN1227403A
公开(公告)日
1999-09-01
发明(设计)人
钤木三惠子
申请人
申请人地址
日本东京
IPC主分类号
H01L21304
IPC分类号
H01L21306 B08B308 C09G100
代理机构
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人
穆德骏
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
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共 50 条
[1]
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中国专利 :CN1574292A ,2005-02-02
[2]
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[3]
使用CMP的半导体器件及其制造方法 [P]. 
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[4]
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[5]
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[6]
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[7]
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[8]
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[9]
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[10]
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