MIS型半导体器件及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201210567894.3
申请日
2012-12-24
公开(公告)号
CN103178099A
公开(公告)日
2013-06-26
发明(设计)人
园山贵广 冈彻
申请人
申请人地址
日本爱知县
IPC主分类号
H01L2951
IPC分类号
H01L21285
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
顾晋伟;全万志
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
小野升太郎 ;
斋藤涉 ;
薮崎宗久 ;
谷内俊治 ;
渡边美穗 .
中国专利 :CN102194883A ,2011-09-21
[2]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
石垣隆士 ;
长部太郎 ;
小林孝 ;
今井丰 ;
清水雅裕 .
中国专利 :CN101000924A ,2007-07-18
[3]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
松田昇 .
中国专利 :CN1534795A ,2004-10-06
[4]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
新川田裕树 .
中国专利 :CN107546232A ,2018-01-05
[5]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
山本芳树 ;
槙山秀树 ;
角村贵昭 ;
岩松俊明 .
中国专利 :CN104137238B ,2014-11-05
[6]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
入泽寿史 ;
沼田敏典 .
中国专利 :CN1819269A ,2006-08-16
[7]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
臼田宏治 ;
手塚勉 .
中国专利 :CN102593118B ,2012-07-18
[8]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
砂村润 ;
井上尚也 ;
金子贵昭 .
中国专利 :CN102956591A ,2013-03-06
[9]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
金永奭 .
中国专利 :CN101409307A ,2009-04-15
[10]
MOS型半导体器件及其制造方法 [P]. 
土明正胜 .
中国专利 :CN1881614A ,2006-12-20