基板处理装置和基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110872158.8

申请日：

2021-07-30

公开(公告)号：

CN114068360A

公开(公告)日：

2022-02-18

发明(设计)人：

梅崎翔太稻富弘朗

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;张会华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-02-18	公开	公开

共 50 条

[1]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

梅崎翔太 ;

稻富弘朗 .

中国专利 :CN114068359A ,2022-02-18

[2]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

福井祥吾 ;

御所真高 ;

冈村聪 ;

浦智仁 .

中国专利 :CN114914172A ,2022-08-16

[3]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

姜亨奭 ;

元俊皓 ;

A·科里阿金 ;

金旻佑 ;

李根洙 ;

吴承彦 ;

金希锡 .

韩国专利 :CN120221389A ,2025-06-27

[4]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

御所真高 ;

山中励二郎 ;

江村智文 .

日本专利 :CN121096912A ,2025-12-09

[5]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

御所真高 ;

山中励二郎 .

中国专利 :CN115083953A ,2022-09-20

[6]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

江村智文 ;

吉村晶仁 ;

后藤修平 ;

井原亨 ;

福井祥吾 .

日本专利 :CN119301739A ,2025-01-10

[7]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

五师源太郎 .

中国专利 :CN111540694A ,2020-08-14

[8]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

五师源太郎 .

日本专利 :CN111540694B ,2024-06-07

[9]

基板处理装置和基板处理装置的维护方法 [P].

梅崎翔太 ;

林田贵大 ;

中岛幹雄 ;

安永尚史 .

日本专利 :CN118366890A ,2024-07-19

[10]

基板处理装置和基板处理装置的维护方法 [P].

梅崎翔太 ;

森山茂 ;

大曲智隆 ;

矢羽田庆一 ;

大家修司 ;

田中雄一 ;

大川胜宏 ;

山中学 ;

板桥拓也 .

日本专利 :CN118366889A ,2024-07-19

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