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基板处理装置和基板处理方法
被引:0
申请号
:
CN202210102360.7
申请日
:
2022-01-27
公开(公告)号
:
CN114914172A
公开(公告)日
:
2022-08-16
发明(设计)人
:
福井祥吾
御所真高
冈村聪
浦智仁
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
:
刘新宇;张会华
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-08-16
公开
公开
共 50 条
[1]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
五师源太郎
论文数:
0
引用数:
0
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0
五师源太郎
.
中国专利
:CN111540694A
,2020-08-14
[2]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
五师源太郎
论文数:
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
五师源太郎
.
日本专利
:CN111540694B
,2024-06-07
[3]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
御所真高
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
御所真高
;
山中励二郎
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
山中励二郎
;
江村智文
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
江村智文
.
日本专利
:CN121096912A
,2025-12-09
[4]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
御所真高
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御所真高
;
山中励二郎
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山中励二郎
.
中国专利
:CN115083953A
,2022-09-20
[5]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
户岛孝之
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户岛孝之
;
岩下光秋
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岩下光秋
;
上川裕二
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上川裕二
;
中岛干雄
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中岛干雄
.
中国专利
:CN102479671A
,2012-05-30
[6]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
井原亨
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井原亨
;
五师源太郎
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五师源太郎
;
山下刚秀
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山下刚秀
.
中国专利
:CN112838028A
,2021-05-25
[7]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
井原亨
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井原亨
;
田中晓
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田中晓
;
五师源太郎
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五师源太郎
;
山下刚秀
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山下刚秀
;
山中励二郎
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山中励二郎
;
神代英明
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神代英明
.
中国专利
:CN114496837A
,2022-05-13
[8]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
姜亨奭
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
姜亨奭
;
元俊皓
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细美事有限公司
细美事有限公司
元俊皓
;
A·科里阿金
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细美事有限公司
细美事有限公司
A·科里阿金
;
金旻佑
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细美事有限公司
细美事有限公司
金旻佑
;
李根洙
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细美事有限公司
细美事有限公司
李根洙
;
吴承彦
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细美事有限公司
细美事有限公司
吴承彦
;
金希锡
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机构:
细美事有限公司
细美事有限公司
金希锡
.
韩国专利
:CN120221389A
,2025-06-27
[9]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
梅崎翔太
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梅崎翔太
;
稻富弘朗
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稻富弘朗
.
中国专利
:CN114068359A
,2022-02-18
[10]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
梅崎翔太
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梅崎翔太
;
稻富弘朗
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稻富弘朗
.
中国专利
:CN114068360A
,2022-02-18
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