基板处理装置和基板处理方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011296423.4

申请日：

2020-11-18

公开(公告)号：

CN112838028A

公开(公告)日：

2021-05-25

发明(设计)人：

井原亨五师源太郎山下刚秀

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

H01L2167

IPC分类号：

H01L2102

代理机构：

北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277

代理人：

刘新宇;张会华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-09-13	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20201118
2021-05-25	公开	公开

共 50 条

[1]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

福井祥吾 ;

御所真高 ;

冈村聪 ;

浦智仁 .

中国专利 :CN114914172A ,2022-08-16

[2]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

户岛孝之 ;

岩下光秋 ;

上川裕二 ;

中岛干雄 .

中国专利 :CN102479671A ,2012-05-30

[3]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

井原亨 ;

田中晓 ;

五师源太郎 ;

山下刚秀 ;

山中励二郎 ;

神代英明 .

中国专利 :CN114496837A ,2022-05-13

[4]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

五师源太郎 .

中国专利 :CN111540694A ,2020-08-14

[5]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

井原亨 ;

五师源太郎 ;

山下刚秀 .

日本专利 :CN112838028B ,2025-03-21

[6]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

井原亨 ;

五师源太郎 ;

山下刚秀 .

日本专利 :CN120184050A ,2025-06-20

[7]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

五师源太郎 .

日本专利 :CN117716476A ,2024-03-15

[8]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

五师源太郎 .

日本专利 :CN111540694B ,2024-06-07

[9]

基板处理装置和基板处理方法 [P].

梅崎翔太 ;

中岛幹雄 ;

林田贵大 .

日本专利 :CN118197952A ,2024-06-14

[10]

基板处理方法和基板处理装置 [P].

内藤启 ;

三好秀典 ;

土场重树 .

中国专利 :CN114300332A ,2022-04-08

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