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基板处理装置和基板处理方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510247527.2
申请日：
2020-11-18
公开(公告)号：
CN120184050A
公开(公告)日：
2025-06-20
发明(设计)人：
井原亨
五师源太郎
山下刚秀
申请人：
东京毅力科创株式会社
申请人地址：
日本
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
H01L21/02
代理机构：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人：
刘新宇;李靖
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-06-20 | 公开 | 公开 |
| 2025-07-08 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20201118 |