用于TFT基板清洗的免损伤清洗液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310312130.4

申请日：

2013-07-24

公开(公告)号：

CN103396903B

公开(公告)日：

2013-11-20

发明(设计)人：

阮军舒滔

申请人：

申请人地址：

215614 江苏省苏州市张家港市凤凰镇双龙村惠晶显示科技（苏州）有限公司

IPC主分类号：

C11D306

IPC分类号：

C11D304 B08B308 C11D183

代理机构：

张家港市高松专利事务所(普通合伙) 32209

代理人：

孙高

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-11-20	公开	公开
2015-07-01	授权	授权
2013-12-18	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101551934294 IPC(主分类):C11D 3/06 专利申请号:2013103121304 申请日:20130724

共 50 条

[1]

玻璃基板水基清洗液及使用该清洗液清洗玻璃基板的方法 [P].

梁泽超 .

中国专利 :CN108060024A ,2018-05-22

[2]

玻璃基板水基清洗液及使用该清洗液清洗玻璃基板的方法 [P].

刘小勇 .

中国专利 :CN103045391A ,2013-04-17

[3]

基板清洗液以及基板清洗方法 [P].

井田纯一 ;

永井达夫 .

中国专利 :CN104871296B ,2015-08-26

[4]

一种TFT液晶玻璃基板清洗液及其清洗方法 [P].

沈玉国 ;

张广涛 ;

李俊锋 ;

闫冬成 ;

侯建伟 ;

徐兴军 .

中国专利 :CN104277944A ,2015-01-14

[5]

清洗液及基板的清洗方法 [P].

吴朝逸 ;

和田幸久 .

日本专利 :CN120113033A ,2025-06-06

[6]

清洗液及基板的清洗方法 [P].

吴朝逸 ;

和田幸久 .

日本专利 :CN120113034A ,2025-06-06

[7]

一种清洗液以及使用该清洗液的清洗工艺 [P].

李鹰彪 ;

李帅 .

中国专利 :CN103834482B ,2014-06-04

[8]

清洗液生成装置、清洗液生成方法、基板清洗装置及基板清洗方法 [P].

宫崎邦浩 ;

桧森洋辅 ;

林航之介 ;

安部正泰 .

中国专利 :CN103579055B ,2014-02-12

[9]

基板清洗液、使用该基板清洗液清洗的基板的制造方法以及器件的制造方法 [P].

绢田贵史 ;

长原达郎 ;

堀场优子 .

中国专利 :CN113227277B ,2021-08-06

[10]

李盈壕 ;

吕志鹏 .

中国专利 :CN1646732A ,2005-07-27

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