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一种成膜设备的靶材结构
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201710615440.1
申请日
:
2017-07-26
公开(公告)号
:
CN107313015A
公开(公告)日
:
2017-11-03
发明(设计)人
:
卢艳
申请人
:
申请人地址
:
102200 北京市昌平区马池口镇昌流路738号16号楼419室
IPC主分类号
:
C23C1434
IPC分类号
:
C23C1454
代理机构
:
北京高沃律师事务所 11569
代理人
:
王加贵
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-11-03
公开
公开
2017-11-28
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/34 申请日:20170726
2019-08-02
授权
授权
共 50 条
[1]
一种靶材防护装置、成膜设备
[P].
张玉州
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
晶澳(扬州)太阳能科技有限公司
晶澳(扬州)太阳能科技有限公司
张玉州
;
袁杰
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0
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0
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机构:
晶澳(扬州)太阳能科技有限公司
晶澳(扬州)太阳能科技有限公司
袁杰
;
仇晓哲
论文数:
0
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0
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0
机构:
晶澳(扬州)太阳能科技有限公司
晶澳(扬州)太阳能科技有限公司
仇晓哲
.
中国专利
:CN117587371A
,2024-02-23
[2]
靶材清洁组件及靶材清洁方法、成膜设备
[P].
谢锐
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0
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0
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0
谢锐
.
中国专利
:CN109023289B
,2018-12-18
[3]
一种用于成膜设备的线缆固定结构和成膜设备
[P].
孙少东
论文数:
0
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0
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机构:
拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司
拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司
孙少东
;
杨雪
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0
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0
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机构:
拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司
拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司
杨雪
;
董岚鑫
论文数:
0
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0
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机构:
拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司
拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司
董岚鑫
.
中国专利
:CN221947849U
,2024-11-01
[4]
一种靶材平面工件的喷涂设备
[P].
李兵
论文数:
0
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0
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0
李兵
.
中国专利
:CN210085558U
,2020-02-18
[5]
成膜设备、成膜设备的控制设备以及成膜方法
[P].
药师神弘士
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0
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机构:
佳能安内华股份有限公司
佳能安内华股份有限公司
药师神弘士
;
坂本怜士
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机构:
佳能安内华股份有限公司
佳能安内华股份有限公司
坂本怜士
;
芝本雅弘
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0
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0
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机构:
佳能安内华股份有限公司
佳能安内华股份有限公司
芝本雅弘
.
日本专利
:CN115427606B
,2024-01-02
[6]
成膜设备、成膜设备的控制设备以及成膜方法
[P].
药师神弘士
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药师神弘士
;
坂本怜士
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坂本怜士
;
芝本雅弘
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芝本雅弘
.
中国专利
:CN115427606A
,2022-12-02
[7]
一种成膜设备和成膜方法
[P].
林伟华
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林伟华
;
魏明蕊
论文数:
0
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魏明蕊
;
刘科学
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0
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刘科学
;
王玉霞
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0
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0
王玉霞
.
中国专利
:CN111696848A
,2020-09-22
[8]
一种成膜设备
[P].
谢振南
论文数:
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0
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
谢振南
;
郑振宇
论文数:
0
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
郑振宇
;
姜勇
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0
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0
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机构:
中微半导体设备(上海)股份有限公司
中微半导体设备(上海)股份有限公司
姜勇
.
中国专利
:CN221971669U
,2024-11-08
[9]
一种成膜设备
[P].
张启平
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0
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张启平
;
方旭东
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0
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方旭东
;
王伟
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0
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王伟
;
孙文波
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0
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0
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孙文波
.
中国专利
:CN203741402U
,2014-07-30
[10]
一种成膜设备
[P].
卢艳
论文数:
0
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0
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0
卢艳
.
中国专利
:CN107345292A
,2017-11-14
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