一种纳米压印易脱模方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510355304.4

申请日：

2015-06-25

公开(公告)号：

CN104898371A

公开(公告)日：

2015-09-09

发明(设计)人：

孙洪文卞存康马晓超虎晨辉

申请人：

申请人地址：

213022 江苏省常州市晋陵北路200号

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

代理机构：

南京纵横知识产权代理有限公司 32224

代理人：

刘艳艳;董建林

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-09-09	公开	公开
2015-10-07	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101628115095 IPC(主分类):G03F 7/00 专利申请号:2015103553044 申请日:20150625
2019-10-15	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):G03F 7/00 申请公布日:20150909

共 50 条

[1]

制备易脱模纳米压印印章的方法 [P].

孙洪文 ;

仇浩 ;

朱玉峰 ;

万萍 ;

范瑞 .

中国专利 :CN102602124A ,2012-07-25

[2]

一种纳米压印脱模装置 [P].

刘守航 ;

袁万利 ;

吴郁清 ;

侯洋昆 .

中国专利 :CN223092292U ,2025-07-11

[3]

纳米压印模板及降低纳米压印脱模缺陷的方法 [P].

李大元 ;

姜英杰 ;

褚浩宇 .

中国专利 :CN118584746B ,2024-09-24

[4]

纳米压印模板及降低纳米压印脱模缺陷的方法 [P].

李大元 ;

姜英杰 ;

褚浩宇 .

中国专利 :CN118584746A ,2024-09-03

[5]

一种纳米压印用自动脱模装置 [P].

李晓军 ;

史瑞城 .

中国专利 :CN215867497U ,2022-02-18

[6]

一种纳米压印模具、纳米压印装置和纳米压印方法 [P].

王健 ;

李建 ;

陈召 ;

覃一锋 ;

张文余 ;

黄东升 .

中国专利 :CN110262186A ,2019-09-20

[7]

一种紫外纳米压印光刻自动脱模系统 [P].

龚健文 ;

胡松 ;

于军胜 ;

赵立新 ;

杨勇 ;

杜婧 .

中国专利 :CN213149470U ,2021-05-07

[8]

一种可自动脱模的纳米压印设备 [P].

冀然 .

中国专利 :CN211492476U ,2020-09-15

[9]

一种纳米压印大面积脱模装置 [P].

郝宗斌 ;

邓萌萌 .

中国专利 :CN119376181A ,2025-01-28

[10]

一种紫外纳米压印光刻自动脱模系统和方法 [P].

龚健文 ;

胡松 ;

于军胜 ;

赵立新 ;

杨勇 ;

杜婧 .

中国专利 :CN111522197B ,2024-04-02

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