NMOS金属栅电极的制作方法

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专利类型
发明
申请号
CN201210189781.4
申请日
2012-06-11
公开(公告)号
CN103489765A
公开(公告)日
2014-01-01
发明(设计)人
张彬
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L2128
IPC分类号
H01L21336
代理机构
北京德琦知识产权代理有限公司 11018
代理人
牛峥;王丽琴
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
金属栅电极和金属栅电极的制作方法 [P]. 
王新鹏 ;
张海洋 ;
张世谋 .
中国专利 :CN102054674A ,2011-05-11
[2]
金属栅电极的制作方法 [P]. 
倪景华 ;
吕伟 ;
刘武平 ;
三重野文健 .
中国专利 :CN102468151A ,2012-05-23
[3]
金属栅电极的制作方法 [P]. 
倪景华 ;
吕伟 ;
刘武平 .
中国专利 :CN102468149A ,2012-05-23
[4]
金属栅堆叠结构的制作方法 [P]. 
陈乐乐 .
中国专利 :CN102931066A ,2013-02-13
[5]
倒梯形替代栅极及倒梯形金属栅电极的制作方法 [P]. 
张翼英 .
中国专利 :CN102412128A ,2012-04-11
[6]
金属栅制作方法 [P]. 
周地宝 ;
任红茹 .
中国专利 :CN102044421A ,2011-05-04
[7]
一种包括金属栅电极的集成电路及制备金属栅电极的方法 [P]. 
M·多茨 ;
J·布拉斯克 ;
J·卡瓦利罗斯 ;
C·巴恩斯 ;
M·梅茨 ;
S·达塔 ;
R·曹 .
中国专利 :CN101027770B ,2007-08-29
[8]
“T”形金属栅电极的制作方法 [P]. 
张翼英 .
中国专利 :CN102412127A ,2012-04-11
[9]
一种金属栅极的制作方法 [P]. 
鲍宇 ;
张彬 .
中国专利 :CN102543698B ,2012-07-04
[10]
金属栅电极层的形成方法 [P]. 
王庆玲 ;
邵群 .
中国专利 :CN103117215B ,2013-05-22