一种磁控溅射反应气氛自反馈控制系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201621366959.8

申请日：

2016-12-14

公开(公告)号：

CN206232812U

公开(公告)日：

2017-06-09

发明(设计)人：

文晓斌

申请人：

申请人地址：

518172 广东省深圳市龙岗区龙城街道黄阁北路龙岗天安数码创新园二号厂房B501

IPC主分类号：

C23C1454

IPC分类号：

C23C1435

代理机构：

北京联创佳为专利事务所(普通合伙) 11362

代理人：

郭防

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-06-09	授权	授权
2019-12-10	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):C23C 14/54 登记生效日:20191120 变更事项:专利权人变更前权利人:文晓斌变更后权利人:深圳金迈克精密科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:518172 广东省深圳市龙岗区龙城街道黄阁北路龙岗天安数码创新园二号厂房B501 变更后权利人:518172 广东省深圳市龙岗区龙城街道黄阁北路龙岗天安数码创新园二号厂房B504

共 50 条

[1]

一种磁控溅射反应气氛自反馈控制系统及其使用方法 [P].

文晓斌 .

中国专利 :CN106756865A ,2017-05-31

[2]

一种用于反应磁控溅射的恒压气氛控制系统 [P].

邾根祥 ;

朱沫浥 ;

方辉 ;

安唐林 ;

王卫 .

中国专利 :CN208008885U ,2018-10-26

[3]

磁控溅射控制系统及其控制方法 [P].

李晓强 ;

兰玥 ;

侯珏 ;

文莉辉 .

中国专利 :CN110484884A ,2019-11-22

[4]

一种用于反应磁控溅射的反应气体控制系统及调试方法 [P].

许磊 ;

宋永辉 ;

刘超 ;

姜颖 .

中国专利 :CN118166328A ,2024-06-11

[5]

振荡燃烧自反馈主动控制系统 [P].

李雅军 ;

李名家 ;

刘洪达 ;

杨健 ;

王威 ;

李东明 ;

任艳平 .

中国专利 :CN209165448U ,2019-07-26

[6]

振荡燃烧自反馈主动控制系统 [P].

李雅军 ;

李名家 ;

刘洪达 ;

杨健 ;

王威 ;

李东明 ;

任艳平 .

中国专利 :CN109340816A ,2019-02-15

[7]

真空磁控溅射金属膜层厚度控制系统 [P].

林孟君 .

中国专利 :CN203878060U ,2014-10-15

[8]

一种多功能磁控溅射镀膜控制系统 [P].

王应民 ;

曹佳峻 ;

王琴 ;

刘鹏亮 .

中国专利 :CN117966119A ,2024-05-03

[9]

反应磁控溅射等离子体稳定性过程控制系统及方法 [P].

王庆 .

中国专利 :CN105441900A ,2016-03-30

[10]

一种自动反馈控制系统 [P].

沈丹萍 .

中国专利 :CN108614499A ,2018-10-02

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