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磁控溅射控制系统及其控制方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201910843856.8
申请日：
2019-09-06
公开(公告)号：
CN110484884A
公开(公告)日：
2019-11-22
发明(设计)人：
李晓强
兰玥
侯珏
文莉辉
申请人：
申请人地址：
100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
IPC主分类号：
C23C1435
IPC分类号：
C23C1454
代理机构：
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人：
彭瑞欣;张天舒
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2019-11-22 | 公开 | 公开 |
| 2023-01-20 | 发明专利申请公布后的驳回 | 发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23C 14/35 申请公布日:20191122 |
| 2019-12-17 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20190906 |