等离子处理装置用接地电极

被引：0

专利类型：

外观设计

申请号：

CN201930512495.X

申请日：

2019-09-18

公开(公告)号：

CN305643703S

公开(公告)日：

2020-03-17

发明(设计)人：

渡部拓

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

0899

IPC分类号：

代理机构：

北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人：

丁文蕴;许凯

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-03-17	授权	授权

共 50 条

[1]

等离子处理装置用环 [P].

矶崎真一 ;

森政士 ;

横川贤悦 ;

荒濑高男 ;

岩濑拓 .

中国专利 :CN305411691S ,2019-11-01

[2]

等离子处理装置用电极板 [P].

矶崎真一 ;

森政士 ;

横川贤悦 ;

荒濑高男 ;

桥本尊久 .

中国专利 :CN304826212S ,2018-09-21

[3]

等离子处理装置用基座 [P].

一野贵雅 ;

佐藤浩平 ;

中本和则 .

中国专利 :CN304265916S ,2017-09-01

[4]

等离子处理装置用环 [P].

一野贵雅 ;

佐藤浩平 ;

中本和则 .

中国专利 :CN304264355S ,2017-09-01

[5]

等离子处理装置用下气室 [P].

田内勤 ;

植村崇 ;

佐藤浩平 .

中国专利 :CN303605935S ,2016-03-02

[6]

等离子处理装置用环壳 [P].

一野贵雅 ;

佐藤浩平 ;

中本和则 .

中国专利 :CN304291185S ,2017-09-22

[7]

等离子处理装置用晶座 [P].

田内勤 ;

植村崇 ;

佐藤浩平 .

中国专利 :CN303612711S ,2016-03-09

[8]

等离子处理装置用环盖 [P].

田内勤 ;

植村崇 ;

佐藤浩平 .

中国专利 :CN303655665S ,2016-04-27

[9]

一种接地电极结构及具有该接地电极的等离子腔室 [P].

张志强 ;

丁伟 ;

彭帆 .

中国专利 :CN209982805U ,2020-01-21

[10]

等离子处理装置用电极板外周环 [P].

矶崎真一 ;

森政士 ;

横川贤悦 ;

荒濑高男 ;

桥本尊久 .

中国专利 :CN304826211S ,2018-09-21

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