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化学机械研磨装置及化学机械研磨工艺研磨垫清洗装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202011345465.2
申请日
:
2020-11-26
公开(公告)号
:
CN112476243A
公开(公告)日
:
2021-03-12
发明(设计)人
:
李松
宋振伟
张守龙
申请人
:
申请人地址
:
214028 江苏省无锡市新吴区新洲路30号
IPC主分类号
:
B24B53017
IPC分类号
:
代理机构
:
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人
:
张彦敏
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-03-12
公开
公开
2021-03-30
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 53/017 申请日:20201126
共 50 条
[1]
化学机械研磨装置
[P].
陈慧新
论文数:
0
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0
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陈慧新
;
李松
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李松
;
宋振伟
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宋振伟
;
张守龙
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张守龙
.
中国专利
:CN112476227A
,2021-03-12
[2]
研磨工件用研磨垫及化学机械研磨装置
[P].
石井游
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0
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石井游
;
伊藤贤也
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0
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伊藤贤也
;
高桥正三
论文数:
0
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高桥正三
;
铃木美加
论文数:
0
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0
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0
铃木美加
.
中国专利
:CN203305049U
,2013-11-27
[3]
研磨工件用研磨垫、化学机械研磨装置及用该化学机械研磨装置研磨工件的方法
[P].
石井游
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石井游
;
伊藤贤也
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0
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0
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伊藤贤也
;
高桥正三
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0
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0
高桥正三
;
铃木美加
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0
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铃木美加
.
中国专利
:CN103419123A
,2013-12-04
[4]
化学机械研磨工艺的研磨头清洗方法
[P].
陈慧新
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陈慧新
;
李松
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李松
;
王大帮
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王大帮
;
宋振伟
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宋振伟
;
张守龙
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张守龙
.
中国专利
:CN112476231B
,2021-03-12
[5]
化学机械研磨装置及化学机械研磨方法
[P].
陈枫
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0
陈枫
.
中国专利
:CN102950536A
,2013-03-06
[6]
研磨装置及化学机械研磨设备
[P].
廖帆伟
论文数:
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
廖帆伟
;
沈毛振
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
沈毛振
;
王润泽
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
王润泽
.
中国专利
:CN223589099U
,2025-11-25
[7]
化学机械研磨工艺及装置
[P].
洪永泰
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洪永泰
;
刘裕腾
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刘裕腾
;
施学浩
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施学浩
;
陈光钊
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陈光钊
.
中国专利
:CN1316571C
,2005-01-19
[8]
用于化学机械研磨装置的研磨垫和化学机械研磨装置
[P].
刘慧超
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刘慧超
;
高林
论文数:
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高林
.
中国专利
:CN215470444U
,2022-01-11
[9]
化学机械研磨工艺
[P].
许嘉麟
论文数:
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许嘉麟
;
蔡胜群
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蔡胜群
.
中国专利
:CN1755901A
,2006-04-05
[10]
研磨垫及化学机械研磨装置
[P].
谭玉荣
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0
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0
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谭玉荣
.
中国专利
:CN206567983U
,2017-10-20
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