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用于化学机械研磨装置的研磨垫和化学机械研磨装置
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202120660603.X
申请日：
2021-03-31
公开(公告)号：
CN215470444U
公开(公告)日：
2022-01-11
发明(设计)人：
刘慧超
高林
申请人：
申请人地址：
430074 湖北省武汉市东湖新技术开发区未来三路88号
IPC主分类号：
B24B3726
IPC分类号：
代理机构：
上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294
代理人：
孙佳胤
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-01-11 | 授权 | 授权 |