基板曝光装置及方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN01143414.7

申请日：

2001-12-26

公开(公告)号：

CN1241068C

公开(公告)日：

2003-04-23

发明(设计)人：

陈国祚

申请人：

申请人地址：

台湾省台北县新店市中正路533号8楼

IPC主分类号：

G03F722

IPC分类号：

H04N104

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

王学强

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-01-11	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):G03F 7/22 申请日:20011226 授权公告日:20060208
2003-04-23	公开	公开
2006-02-08	授权	授权
2004-12-15	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

基板曝光装置 [P].

陈国祚 .

中国专利 :CN2525562Y ,2002-12-11

[2]

基板曝光装置及基板曝光方法 [P].

田端秀敏 .

中国专利 :CN101025575A ,2007-08-29

[3]

挡板及曝光装置、基板曝光方法 [P].

徐玉枫 ;

葛一飞 ;

周皓月 ;

范柳彬 ;

冯士振 ;

付佳 ;

陈源源 ;

许智鹏 .

中国专利 :CN119828421A ,2025-04-15

[4]

曝光装置、基板处理装置、曝光方法及基板处理方法 [P].

松尾友宏 ;

福本靖博 ;

大木孝文 ;

浅井正也 ;

春本将彦 ;

田中裕二 ;

中山知佐世 .

中国专利 :CN108535965B ,2018-09-14

[5]

曝光装置、基板处理装置、曝光方法及基板处理方法 [P].

松尾友宏 ;

福本靖博 ;

大木孝文 ;

浅井正也 ;

春本将彦 ;

田中裕二 ;

中山知佐世 .

中国专利 :CN108535966A ,2018-09-14

[6]

基板曝光装置 [P].

陈国祚 .

中国专利 :CN1365028A ,2002-08-21

[7]

曝光装置及曝光方法 [P].

日高康弘 ;

长山匡 .

中国专利 :CN105204303B ,2015-12-30

[8]

一种曝光方法、基板及曝光装置 [P].

李晓光 ;

肖宇 ;

薛超 ;

汪栋 .

中国专利 :CN106125516B ,2016-11-16

[9]

曝光装置、基板处理装置、曝光方法以及基板处理方法 [P].

中山知佐世 ;

田中裕二 ;

春本将彦 ;

浅井正也 ;

福本靖博 ;

金山幸司 .

中国专利 :CN109541890B ,2019-03-29

[10]

曝光装置以及基板的曝光方法 [P].

池渊宏 ;

户川悟 ;

永井新一郎 ;

桐生恭孝 .

中国专利 :CN102203677B ,2011-09-28

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