一种曝光方法、基板及曝光装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610696721.X

申请日：

2016-08-19

公开(公告)号：

CN106125516B

公开(公告)日：

2016-11-16

发明(设计)人：

李晓光肖宇薛超汪栋

申请人：

申请人地址：

100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291

代理人：

黄志华

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-07-29	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20160819 授权公告日:20181218 终止日期:20210819
2016-11-16	公开	公开
2018-12-18	授权	授权
2016-12-14	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101691386771 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:201610696721X 申请日:20160819

共 50 条

[1]

基板曝光装置及基板曝光方法 [P].

田端秀敏 .

中国专利 :CN101025575A ,2007-08-29

[2]

挡板及曝光装置、基板曝光方法 [P].

徐玉枫 ;

葛一飞 ;

周皓月 ;

范柳彬 ;

冯士振 ;

付佳 ;

陈源源 ;

许智鹏 .

中国专利 :CN119828421A ,2025-04-15

[3]

一种曝光装置及曝光方法 [P].

肖宇 ;

汪栋 ;

李晓光 .

中国专利 :CN105116692B ,2015-12-02

[4]

曝光装置、基板处理装置、曝光方法及基板处理方法 [P].

松尾友宏 ;

福本靖博 ;

大木孝文 ;

浅井正也 ;

春本将彦 ;

田中裕二 ;

中山知佐世 .

中国专利 :CN108535965B ,2018-09-14

[5]

曝光装置、基板处理装置、曝光方法及基板处理方法 [P].

松尾友宏 ;

福本靖博 ;

大木孝文 ;

浅井正也 ;

春本将彦 ;

田中裕二 ;

中山知佐世 .

中国专利 :CN108535966A ,2018-09-14

[6]

一种曝光方法、曝光装置及彩膜基板 [P].

张连坤 ;

闫润宝 ;

王艳萍 ;

亢少博 ;

张然 .

中国专利 :CN105527800A ,2016-04-27

[7]

基板曝光装置及方法 [P].

陈国祚 .

中国专利 :CN1241068C ,2003-04-23

[8]

曝光装置以及基板的曝光方法 [P].

池渊宏 ;

户川悟 ;

永井新一郎 ;

桐生恭孝 .

中国专利 :CN102203677B ,2011-09-28

[9]

一种曝光装置及曝光方法 [P].

詹敏 .

中国专利 :CN109557772A ,2019-04-02

[10]

一种曝光装置及曝光方法 [P].

程琦 ;

陈飞彪 .

中国专利 :CN106154760B ,2016-11-23

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