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一种用于半导体晶片冷却的装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201720309793.4
申请日
:
2017-03-28
公开(公告)号
:
CN206628461U
公开(公告)日
:
2017-11-10
发明(设计)人
:
魏兴政
李浩
申请人
:
申请人地址
:
250200 山东省济南市章丘区明水街道办事处赭山工业园
IPC主分类号
:
H01L23367
IPC分类号
:
H05K720
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-11-10
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体晶片高效冷却装置
[P].
李维繁星
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
弘润半导体(苏州)有限公司
弘润半导体(苏州)有限公司
李维繁星
;
张春霞
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
弘润半导体(苏州)有限公司
弘润半导体(苏州)有限公司
张春霞
;
李北印
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
弘润半导体(苏州)有限公司
弘润半导体(苏州)有限公司
李北印
;
沈红星
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
弘润半导体(苏州)有限公司
弘润半导体(苏州)有限公司
沈红星
;
陈泳宇
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
弘润半导体(苏州)有限公司
弘润半导体(苏州)有限公司
陈泳宇
.
中国专利
:CN222546313U
,2025-02-28
[2]
半导体晶片冷却装置
[P].
野口贵也
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
野口贵也
.
中国专利
:CN102376527A
,2012-03-14
[3]
半导体晶片冷却装置
[P].
野口贵也
论文数:
0
引用数:
0
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0
野口贵也
.
中国专利
:CN104362113A
,2015-02-18
[4]
半导体晶片抛光大盘冷却装置
[P].
赵海峰
论文数:
0
引用数:
0
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0
赵海峰
.
中国专利
:CN217413643U
,2022-09-13
[5]
一种用于半导体晶片的清洗装置
[P].
施超
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
施超
.
中国专利
:CN215299188U
,2021-12-24
[6]
一种用于半导体晶片的清洗装置
[P].
黄锦局
论文数:
0
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0
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0
黄锦局
;
阮秀清
论文数:
0
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0
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0
阮秀清
.
中国专利
:CN208695808U
,2019-04-05
[7]
用于半导体晶片的转序装置
[P].
夏继良
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
青岛融合装备科技有限公司
青岛融合装备科技有限公司
夏继良
;
崔秀君
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
青岛融合装备科技有限公司
青岛融合装备科技有限公司
崔秀君
;
王清玉
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
青岛融合装备科技有限公司
青岛融合装备科技有限公司
王清玉
;
王杨
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
青岛融合装备科技有限公司
青岛融合装备科技有限公司
王杨
.
中国专利
:CN220367899U
,2024-01-19
[8]
用于处理半导体晶片的半导体处理设备
[P].
J·H·张
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
J·H·张
.
中国专利
:CN203503622U
,2014-03-26
[9]
一种用于半导体晶片厚度检测装置
[P].
林鹏
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
湖北勤为半导体材料有限责任公司
湖北勤为半导体材料有限责任公司
林鹏
;
刘志清
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
湖北勤为半导体材料有限责任公司
湖北勤为半导体材料有限责任公司
刘志清
;
胡巍
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
湖北勤为半导体材料有限责任公司
湖北勤为半导体材料有限责任公司
胡巍
.
中国专利
:CN222505238U
,2025-02-18
[10]
一种用于半导体晶片厚度测量装置
[P].
崔军
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
日月新半导体(苏州)有限公司
日月新半导体(苏州)有限公司
崔军
.
中国专利
:CN223525744U
,2025-11-07
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