化学气相沉积反应器或外延层生长反应器及其支撑装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110375777.2

申请日：

2011-11-23

公开(公告)号：

CN103132051A

公开(公告)日：

2013-06-05

发明(设计)人：

尹志尧姜勇

申请人：

申请人地址：

201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

C23C16458

代理机构：

上海智信专利代理有限公司 31002

代理人：

王洁

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-06-05	公开	公开
2015-07-08	授权	授权
2013-07-10	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101486724210 IPC(主分类):C23C 16/44 专利申请号:2011103757772 申请日:20111123
2019-04-05	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 16/44 变更事项:专利权人变更前:中微半导体设备（上海）有限公司变更后:中微半导体设备（上海）股份有限公司变更事项:地址变更前:201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号变更后:201201 上海市浦东新区金桥出口加工区（南区）泰华路188号

共 50 条

[1]

化学气相沉积反应器或外延层生长反应器及其支撑装置 [P].

尹志尧 ;

姜勇 .

中国专利 :CN105088187A ,2015-11-25

[2]

化学气相沉积反应器或外延层生长反应器及其支撑装置 [P].

尹志尧 ;

姜勇 .

中国专利 :CN105088186B ,2015-11-25

[3]

反应气体输送装置及化学气相沉积或外延层生长反应器 [P].

姜银鑫 ;

杜志游 .

中国专利 :CN105624645A ,2016-06-01

[4]

化学气相沉积或外延层生长反应器及其基片托盘和支撑轴 [P].

姜勇 ;

郑振宇 .

中国专利 :CN204982132U ,2016-01-20

[5]

反应器、化学气相沉积反应器以及有机金属化学气相沉积反应器 [P].

陈卫国 ;

陈京玉 .

中国专利 :CN102154624A ,2011-08-17

[6]

化学气相沉积反应器 [P].

G.K.斯特劳赫 ;

D.布里恩 ;

M.道尔斯伯格 .

中国专利 :CN102612571A ,2012-07-25

[7]

化学气相沉积反应器 [P].

李森田 ;

优瑞·吉欧吉维奇·史瑞特 ;

优瑞·图马索维奇·瑞朋 ;

罗斯南·伊凡诺维奇·葛布诺夫 .

中国专利 :CN1854336A ,2006-11-01

[8]

化学气相沉积反应器 [P].

刘恒 .

中国专利 :CN101036215A ,2007-09-12

[9]

化学气相沉积反应器 [P].

迈克尔·J·贝卡尼 ;

弗兰克·J·卡姆帕纳勒 .

中国专利 :CN101802254B ,2010-08-11

[10]

高效外延化学气相沉积（CVD）反应器 [P].

乔治·卡米安 .

中国专利 :CN102427971B ,2012-04-25

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