化学气相沉积或外延层生长反应器及其基片托盘和支撑轴

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201520681445.0
申请日
2015-09-06
公开(公告)号
CN204982132U
公开(公告)日
2016-01-20
发明(设计)人
姜勇 郑振宇
申请人
申请人地址
201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号
IPC主分类号
C30B2512
IPC分类号
C23C16458
代理机构
上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249
代理人
徐雯琼;张静洁
法律状态
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
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共 50 条
[1]
化学气相沉积反应器或外延层生长反应器及其支撑装置 [P]. 
尹志尧 ;
姜勇 .
中国专利 :CN105088187A ,2015-11-25
[2]
化学气相沉积反应器或外延层生长反应器及其支撑装置 [P]. 
尹志尧 ;
姜勇 .
中国专利 :CN105088186B ,2015-11-25
[3]
化学气相沉积反应器或外延层生长反应器及其支撑装置 [P]. 
尹志尧 ;
姜勇 .
中国专利 :CN103132051A ,2013-06-05
[4]
反应气体输送装置及化学气相沉积或外延层生长反应器 [P]. 
姜银鑫 ;
杜志游 .
中国专利 :CN105624645A ,2016-06-01
[5]
一种化学气相沉积或外延层生长反应器及其内的旋转轴 [P]. 
郑振宇 ;
何乃明 .
中国专利 :CN109957835B ,2019-07-02
[6]
高效外延化学气相沉积(CVD)反应器 [P]. 
乔治·卡米安 .
中国专利 :CN102427971B ,2012-04-25
[7]
化学气相沉积反应器 [P]. 
G.K.斯特劳赫 ;
D.布里恩 ;
M.道尔斯伯格 .
中国专利 :CN102612571A ,2012-07-25
[8]
化学气相沉积反应器 [P]. 
李森田 ;
优瑞·吉欧吉维奇·史瑞特 ;
优瑞·图马索维奇·瑞朋 ;
罗斯南·伊凡诺维奇·葛布诺夫 .
中国专利 :CN1854336A ,2006-11-01
[9]
化学气相沉积反应器 [P]. 
刘恒 .
中国专利 :CN101036215A ,2007-09-12
[10]
化学气相沉积反应器 [P]. 
迈克尔·J·贝卡尼 ;
弗兰克·J·卡姆帕纳勒 .
中国专利 :CN101802254B ,2010-08-11