下电极组件及具有其的化学气相沉积设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110424005.3

申请日：

2011-12-19

公开(公告)号：

CN103160812A

公开(公告)日：

2013-06-19

发明(设计)人：

袁强

申请人：

申请人地址：

100176 北京市经济技术开发区文昌大道8号

IPC主分类号：

C23C1650

IPC分类号：

代理机构：

北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201

代理人：

宋合成

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-07-24	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101494127471 IPC(主分类):C23C 16/50 专利申请号:2011104240053 申请日:20111219
2017-02-08	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101746122724 IPC(主分类):C23C 16/50 专利申请号:2011104240053 申请公布日:20130619
2013-06-19	公开	公开

共 50 条

[1]

下电极组件及化学气相沉积装置 [P].

姜勇 ;

谢振南 .

中国专利 :CN214300349U ,2021-09-28

[2]

化学气相沉积反应腔装置及具有其的化学气相沉积设备 [P].

董志清 .

中国专利 :CN102776488B ,2012-11-14

[3]

用于化学气相沉积设备的电极框及化学气相沉积设备 [P].

谢锐 .

中国专利 :CN107435142A ,2017-12-05

[4]

托盘及具有其的化学气相沉积设备 [P].

徐亚伟 .

中国专利 :CN102732861A ,2012-10-17

[5]

管道组件及化学气相沉积设备 [P].

孙鹏 ;

袁将峰 .

中国专利 :CN222729890U ,2025-04-08

[6]

用于化学气相沉积设备的基座组件及化学气相沉积设备 [P].

汪国元 ;

代宇通 ;

姜勇 ;

郭世平 .

中国专利 :CN222139265U ,2024-12-10

[7]

用于化学气相沉积设备的基座组件及化学气相沉积设备 [P].

汪国元 ;

姜勇 ;

胡建正 ;

郭世平 .

中国专利 :CN120138611A ,2025-06-13

[8]

反应腔及具有其的化学气相沉积设备 [P].

徐亚伟 .

中国专利 :CN102732860B ,2012-10-17

[9]

电极引入组件及管式化学气相沉积设备 [P].

李学文 ;

阳芳 ;

刘兵吉 ;

王郴意 ;

杨培森 .

中国专利 :CN222349126U ,2025-01-14

[10]

化学气相沉积炉及化学气相沉积设备 [P].

朱伟杰 ;

顾志强 ;

戴建庭 ;

董宁 ;

李强 .

中国专利 :CN209522919U ,2019-10-22

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