托盘及具有其的化学气相沉积设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110094076.1

申请日：

2011-04-14

公开(公告)号：

CN102732861A

公开(公告)日：

2012-10-17

发明(设计)人：

徐亚伟

申请人：

申请人地址：

100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号

IPC主分类号：

C23C16458

IPC分类号：

代理机构：

北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201

代理人：

张大威

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-10-17	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 16/458 变更事项:专利权人变更前:北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司变更后:北京北方华创微电子装备有限公司变更事项:地址变更前:100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号变更后:100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号
2017-11-03	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 16/458 变更事项:专利权人变更前:北京北方华创微电子装备有限公司变更后:北京北方华创微电子装备有限公司变更事项:地址变更前:100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号变更后:100176 北京市经济技术开发区文昌大道8号
2012-10-17	公开	公开
2012-12-12	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101363520749 IPC(主分类):C23C 16/458 专利申请号:2011100940761 申请日:20110414
2014-12-17	授权	授权

共 50 条

[1]

化学气相沉积反应腔装置及具有其的化学气相沉积设备 [P].

董志清 .

中国专利 :CN102776488B ,2012-11-14

[2]

用于化学气相沉积设备的基座组件及化学气相沉积设备 [P].

汪国元 ;

姜勇 ;

胡建正 ;

郭世平 .

中国专利 :CN120138611A ,2025-06-13

[3]

反应腔及具有其的化学气相沉积设备 [P].

徐亚伟 .

中国专利 :CN102732860B ,2012-10-17

[4]

一种托盘及化学气相沉积设备 [P].

李勇志 ;

金文彬 .

中国专利 :CN118028783A ,2024-05-14

[5]

化学气相沉积炉及化学气相沉积设备 [P].

朱伟杰 ;

顾志强 ;

戴建庭 ;

董宁 ;

李强 .

中国专利 :CN209522919U ,2019-10-22

[6]

化学气相沉积设备的气路结构及化学气相沉积设备 [P].

卢山 ;

陈神星 ;

姜鼎 ;

黄荣 .

中国专利 :CN216473473U ,2022-05-10

[7]

化学气相沉积设备的安装方法及化学气相沉积设备 [P].

沈建飞 ;

徐皓 ;

潘雯海 ;

胡小栋 .

中国专利 :CN101994100A ,2011-03-30

[8]

下电极组件及具有其的化学气相沉积设备 [P].

袁强 .

中国专利 :CN103160812A ,2013-06-19

[9]

用于化学气相沉积设备的电极框及化学气相沉积设备 [P].

谢锐 .

中国专利 :CN107435142A ,2017-12-05

[10]

用于化学气相沉积设备的基座组件及化学气相沉积设备 [P].

汪国元 ;

代宇通 ;

姜勇 ;

郭世平 .

中国专利 :CN222139265U ,2024-12-10

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