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一种半导体用石墨表面处理方法
被引:0
申请号
:
CN202011461290.1
申请日
:
2020-12-13
公开(公告)号
:
CN114621030A
公开(公告)日
:
2022-06-14
发明(设计)人
:
汪洋
申请人
:
申请人地址
:
412000 湖南省株洲市天元区中国动力谷自主创新园(研发中心C栋2楼202号)
IPC主分类号
:
C04B4188
IPC分类号
:
H01M462
H01M100525
代理机构
:
代理人
:
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-06-14
公开
公开
共 50 条
[1]
一种表面具有纳米齿状的半导体用石墨
[P].
汪洋
论文数:
0
引用数:
0
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0
汪洋
.
中国专利
:CN114620720A
,2022-06-14
[2]
一种半导体用石英的表面处理方法
[P].
何桥
论文数:
0
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0
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0
何桥
;
贺贤汉
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贺贤汉
;
陈煜
论文数:
0
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0
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陈煜
;
廖宗杰
论文数:
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0
廖宗杰
;
尚玉帝
论文数:
0
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0
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0
尚玉帝
.
中国专利
:CN103011611B
,2013-04-03
[3]
半导体用超高纯石墨毡表面处理装置
[P].
戈珍军
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
北京晶龙特碳科技有限公司
北京晶龙特碳科技有限公司
戈珍军
.
中国专利
:CN223097537U
,2025-07-15
[4]
一种半导体刻蚀腔体用陶瓷基材表面处理方法
[P].
丁国强
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
苏州高芯众科半导体有限公司
苏州高芯众科半导体有限公司
丁国强
.
中国专利
:CN121135492A
,2025-12-16
[5]
一种高端半导体用石墨材料表面研磨装置
[P].
杨晓鹏
论文数:
0
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0
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机构:
平顶山东方碳素股份有限公司
平顶山东方碳素股份有限公司
杨晓鹏
;
樊少璞
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机构:
平顶山东方碳素股份有限公司
平顶山东方碳素股份有限公司
樊少璞
;
张梦楠
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机构:
平顶山东方碳素股份有限公司
平顶山东方碳素股份有限公司
张梦楠
;
王少普
论文数:
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机构:
平顶山东方碳素股份有限公司
平顶山东方碳素股份有限公司
王少普
.
中国专利
:CN223519337U
,2025-11-07
[6]
一种大型半导体用石墨制备方法
[P].
邓海涛
论文数:
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0
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机构:
奥通碳素(内江)科技有限公司
奥通碳素(内江)科技有限公司
邓海涛
;
杨华丰
论文数:
0
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机构:
奥通碳素(内江)科技有限公司
奥通碳素(内江)科技有限公司
杨华丰
;
张刘
论文数:
0
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0
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机构:
奥通碳素(内江)科技有限公司
奥通碳素(内江)科技有限公司
张刘
;
梁斌
论文数:
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机构:
奥通碳素(内江)科技有限公司
奥通碳素(内江)科技有限公司
梁斌
.
中国专利
:CN121021145A
,2025-11-28
[7]
一种半导体表面处理方法
[P].
祁延刚
论文数:
0
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0
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0
机构:
东莞新科技术研究开发有限公司
东莞新科技术研究开发有限公司
祁延刚
.
中国专利
:CN119506880A
,2025-02-25
[8]
一种半导体表面处理方法
[P].
余周
论文数:
0
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0
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0
余周
.
中国专利
:CN114672773A
,2022-06-28
[9]
一种半导体表面处理方法
[P].
何际福
论文数:
0
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0
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0
何际福
.
中国专利
:CN114059026A
,2022-02-18
[10]
半导体的表面处理方法
[P].
黄海冰
论文数:
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黄海冰
;
曾庆和
论文数:
0
引用数:
0
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0
曾庆和
.
中国专利
:CN104733284B
,2015-06-24
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