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半色调相移光掩模坯和制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201710052066.9
申请日：
2017-01-20
公开(公告)号：
CN106997145B
公开(公告)日：
2017-08-01
发明(设计)人：
高坂卓郎
稻月判臣
金子英雄
申请人：
申请人地址：
日本东京
IPC主分类号：
G03F132
IPC分类号：
代理机构：
中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038
代理人：
何杨
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-11-02 | 授权 | 授权 |
| 2019-02-12 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/32 申请日:20170120 |
| 2017-08-01 | 公开 | 公开 |