半色调相移掩模坯和半色调相移掩模

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610195663.2

申请日：

2016-03-31

公开(公告)号：

CN106019810B

公开(公告)日：

2016-10-12

发明(设计)人：

笹本纮平高坂卓郎稻月判臣金子英雄

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

G03F132

IPC分类号：

代理机构：

中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038

代理人：

杜丽利

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-05-01	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 1/32 申请日:20160331
2016-10-12	公开	公开
2020-12-08	授权	授权

共 50 条

[1]

半色调相移掩模坯和半色调相移掩模 [P].

稻月判臣 ;

高坂卓郎 ;

笹本纮平 ;

金子英雄 .

中国专利 :CN107870507A ,2018-04-03

[2]

半色调相移掩模坯，半色调相移掩模，和图案曝光方法 [P].

高坂卓郎 ;

稻月判臣 .

中国专利 :CN106019809A ,2016-10-12

[3]

半色调相移光掩模坯和制造方法 [P].

高坂卓郎 ;

稻月判臣 ;

金子英雄 .

中国专利 :CN106997145B ,2017-08-01

[4]

半色调掩模和半色调掩模坯 [P].

齐藤隆史 .

中国专利 :CN107589630A ,2018-01-16

[5]

半色调掩模、光掩模坯和半色调掩模的制造方法 [P].

山田慎吾 ;

森山久美子 ;

美作昌宏 .

中国专利 :CN109983402B ,2019-07-05

[6]

半色调掩模、光掩模坯和半色调掩模的制造方法 [P].

美作昌宏 .

中国专利 :CN110023836B ,2019-07-16

[7]

相移掩模坯、相移掩模和坯制备方法 [P].

稻月判臣 ;

高坂卓郎 .

中国专利 :CN106019808A ,2016-10-12

[8]

掩模坯、半色调掩模、掩模坯的制造方法及半色调掩模的制造方法 [P].

诸沢成浩 .

中国专利 :CN111025840A ,2020-04-17

[9]

相移掩模坯、相移掩模坯的制造方法、相移掩模及相移掩模的制造方法 [P].

望月圣 ;

关根正弘 ;

汐崎英治 ;

江成雄一 .

日本专利 :CN120704049A ,2025-09-26

[10]

掩模坯、半色调掩模、制造方法、制造装置 [P].

诸沢成浩 ;

汐崎英治 .

中国专利 :CN112015044A ,2020-12-01

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