化学气相沉积设备和利用其制造显示设备的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810650227.9

申请日：

2018-06-22

公开(公告)号：

CN109234708B

公开(公告)日：

2019-01-18

发明(设计)人：

朴钟勋郑石源朱儇佑崔宰赫闵庚柱朴元雄

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道龙仁市

IPC主分类号：

C23C16513

IPC分类号：

C23C16458 C23C1646 H01L5152

代理机构：

北京铭硕知识产权代理有限公司 11286

代理人：

王慧敏;刘灿强

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-21	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/513 申请日:20180622
2019-01-18	公开	公开
2022-06-03	授权	授权

共 50 条

[1]

化学气相沉积设备 [P].

朴钟勋 ;

郑石源 ;

朱儇佑 ;

崔宰赫 ;

闵庚柱 ;

朴元雄 .

韩国专利 :CN114807895B ,2025-01-10

[2]

化学气相沉积设备 [P].

朴钟勋 ;

郑石源 ;

朱儇佑 ;

崔宰赫 ;

闵庚柱 ;

朴元雄 .

中国专利 :CN114807895A ,2022-07-29

[3]

化学气相沉积设备和化学气相沉积设备的制作方法 [P].

张添水 .

中国专利 :CN117646188A ,2024-03-05

[4]

化学气相沉积设备 [P].

艾青南 ;

周贺 ;

胡青飞 .

中国专利 :CN103924217A ,2014-07-16

[5]

化学气相沉积设备的安装方法及化学气相沉积设备 [P].

沈建飞 ;

徐皓 ;

潘雯海 ;

胡小栋 .

中国专利 :CN101994100A ,2011-03-30

[6]

用于化学气相沉积设备的加热装置和化学气相沉积设备 [P].

麻鹏达 ;

薛运周 ;

鲁天豪 .

中国专利 :CN117512572A ,2024-02-06

[7]

基座和包括其的化学气相沉积设备 [P].

韩炅燉 .

中国专利 :CN102605347A ,2012-07-25

[8]

化学气相沉积设备以及化学气相沉积设备的温度控制方法 [P].

洪性在 .

中国专利 :CN102640260A ,2012-08-15

[9]

化学气相沉积设备的气路结构及化学气相沉积设备 [P].

卢山 ;

陈神星 ;

姜鼎 ;

黄荣 .

中国专利 :CN216473473U ,2022-05-10

[10]

化学气相沉积设备 [P].

金昶成 ;

刘相德 ;

洪钟波 ;

沈智慧 ;

李元申 .

中国专利 :CN102230167A ,2011-11-02

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