纳米压印胶层的制作方法和光学元件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202111199916.0

申请日：

2021-10-14

公开(公告)号：

CN113900354A

公开(公告)日：

2022-01-07

发明(设计)人：

苑洪钟曹雪峰陈远

申请人：

申请人地址：

315455 浙江省宁波市余姚市阳明街道丰乐路67-69号

IPC主分类号：

G03F700

IPC分类号：

代理机构：

北京康信知识产权代理有限责任公司 11240

代理人：

刘娜

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-01-25	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/00 申请日:20211014
2022-01-07	公开	公开

共 50 条

[1]

纳米压印胶层的制作方法和光学元件 [P].

苑洪钟 ;

曹雪峰 ;

陈远 .

中国专利 :CN113900354B ,2024-03-26

[2]

一种光学元件用纳米压印胶层的制作方法 [P].

林晓辉 ;

孙易安 .

中国专利 :CN117826535A ,2024-04-05

[3]

纳米压印弹性模板的制作方法、纳米压印弹性模板及组件 [P].

童美魁 ;

段晓东 .

中国专利 :CN109656098A ,2019-04-19

[4]

一种可控制纳米压印胶层厚度的纳米压印设备 [P].

冀然 .

中国专利 :CN214409580U ,2021-10-15

[5]

光学元件及光学元件的制作方法 [P].

山田泰美 ;

平井利博 .

中国专利 :CN111492297A ,2020-08-04

[6]

纳米压印胶及其制备方法 [P].

陈廷忠 ;

周兴 ;

王兆民 .

中国专利 :CN120909065A ,2025-11-07

[7]

纳米压印胶及其制备方法 [P].

陈廷忠 ;

周兴 ;

王兆民 .

中国专利 :CN120909064A ,2025-11-07

[8]

光学元件、光学装置以及光学元件的制作方法 [P].

程桂亮 ;

吾晓 ;

张景 ;

王必昌 .

中国专利 :CN107797298A ,2018-03-13

[9]

纳米图案的拼接方法、纳米压印板、光栅及制作方法 [P].

贺芳 ;

尹东升 ;

顾仁权 ;

何伟 ;

徐胜 ;

吴慧利 ;

李士佩 ;

黎午升 ;

姚琪 .

中国专利 :CN109541885A ,2019-03-29

[10]

纳米压印模板的制作方法及纳米压印模板 [P].

陈黎暄 ;

李泳锐 .

中国专利 :CN105700292A ,2016-06-22

← 1 2 3 4 5 →