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一种选择区域外延的图形化掩膜制备及二次生长界面优化方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201711035525.9
申请日：
2017-10-30
公开(公告)号：
CN107706100A
公开(公告)日：
2018-02-16
发明(设计)人：
刘扬
黄燕芬
申请人：
申请人地址：
510275 广东省广州市新港西路135号
IPC主分类号：
H01L2128
IPC分类号：
H01L29423
代理机构：
广州粤高专利商标代理有限公司 44102
代理人：
陈伟斌
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2018-02-16 | 公开 | 公开 |
| 2018-03-16 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/28 申请日:20171030 |