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一种选择区域外延生长界面改善结构
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201620765231.6
申请日
:
2016-07-20
公开(公告)号
:
CN206134690U
公开(公告)日
:
2017-04-26
发明(设计)人
:
刘扬
李柳暗
杨帆
申请人
:
申请人地址
:
510275 广东省广州市新港西路135号
IPC主分类号
:
H01L2920
IPC分类号
:
代理机构
:
广州粤高专利商标代理有限公司 44102
代理人
:
陈卫
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-04-26
授权
授权
共 50 条
[1]
一种选择区域外延生长界面改善方法
[P].
刘扬
论文数:
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0
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刘扬
;
李柳暗
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李柳暗
;
杨帆
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0
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杨帆
.
中国专利
:CN106024588A
,2016-10-12
[2]
一种选择区域外延生长界面保护方法
[P].
刘扬
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刘扬
;
周德秋
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周德秋
;
杨帆
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杨帆
;
倪毅强
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倪毅强
.
中国专利
:CN104018215A
,2014-09-03
[3]
一种选择区域外延的图形化掩膜制备及二次生长界面优化方法
[P].
刘扬
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刘扬
;
黄燕芬
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黄燕芬
.
中国专利
:CN107706100A
,2018-02-16
[4]
一种选择区域外延的图形化掩膜制备及二次生长界面优化结构
[P].
刘扬
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刘扬
;
黄燕芬
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0
黄燕芬
.
中国专利
:CN207753014U
,2018-08-21
[5]
选择区域外延生长叠层电吸收调制激光器结构的制作方法
[P].
朱洪亮
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朱洪亮
;
李宝霞
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李宝霞
;
张靖
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张靖
;
王圩
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王圩
.
中国专利
:CN100384038C
,2006-03-22
[6]
改善PMOS区域外延层结构均一性的方法
[P].
宗怡
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机构:
上海华力集成电路制造有限公司
上海华力集成电路制造有限公司
宗怡
.
中国专利
:CN119947230A
,2025-05-06
[7]
利用选择区域外延技术制作激光器阵列的方法
[P].
梁松
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梁松
;
朱洪亮
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朱洪亮
.
中国专利
:CN104242059A
,2014-12-24
[8]
一种选区外延高质量的AlGaN/GaN生长结构
[P].
刘扬
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刘扬
;
张佳琳
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张佳琳
;
杨帆
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杨帆
;
何亮
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何亮
.
中国专利
:CN206301802U
,2017-07-04
[9]
利用选择区域外延技术制作分布反馈激光器阵列的方法
[P].
梁松
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梁松
;
张灿
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张灿
;
朱洪亮
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朱洪亮
;
王圩
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王圩
.
中国专利
:CN102820616B
,2012-12-12
[10]
选择区域外延自脉动DFB激光器的制作方法
[P].
张灿
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张灿
;
朱洪亮
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朱洪亮
;
梁松
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梁松
;
马丽
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马丽
.
中国专利
:CN102496853B
,2012-06-13
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