用于半导体器件制造的基板结构及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201110025831.0
申请日
2011-01-24
公开(公告)号
CN102610579B
公开(公告)日
2012-07-25
发明(设计)人
朱慧珑 骆志炯 尹海洲
申请人
申请人地址
美国纽约州波基普西市奥特姆路93#
IPC主分类号
H01L2313
IPC分类号
H01L2148 H01L2176
代理机构
北京汉昊知识产权代理事务所(普通合伙) 11370
代理人
朱海波
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
用于半导体器件制造的基板结构及其制造方法 [P]. 
朱慧珑 ;
尹海洲 ;
骆志炯 .
中国专利 :CN101976657B ,2011-02-16
[2]
半导体基板及其制造方法和半导体器件结构及其制造方法 [P]. 
黄河 ;
汪新学 ;
徐海瑛 ;
王敬平 .
中国专利 :CN114446994A ,2022-05-06
[3]
半导体基板及其制造方法和半导体器件结构及其制造方法 [P]. 
黄河 ;
汪新学 ;
徐海瑛 ;
王敬平 .
中国专利 :CN114446936A ,2022-05-06
[4]
半导体器件、半导体基板、半导体基板的制造方法及半导体器件的制造方法 [P]. 
秦雅彦 ;
山田永 ;
横山正史 ;
金相贤 ;
张睿 ;
竹中充 ;
高木信一 ;
安田哲二 .
中国专利 :CN103563069A ,2014-02-05
[5]
半导体器件、半导体基板、半导体基板的制造方法及半导体器件的制造方法 [P]. 
高田朋幸 ;
山田永 ;
秦雅彦 ;
高木信一 ;
前田辰郎 ;
卜部友二 ;
安田哲二 .
中国专利 :CN103548133A ,2014-01-29
[6]
半导体器件、半导体基板、半导体基板的制造方法及半导体器件的制造方法 [P]. 
秦雅彦 ;
山田永 ;
横山正史 ;
金相贤 ;
竹中充 ;
高木信一 ;
安田哲二 .
中国专利 :CN103563068A ,2014-02-05
[7]
半导体基板、半导体基板的制造方法以及制造装置、半导体器件的制造方法 [P]. 
神川刚 ;
小林敏洋 ;
须田升 ;
小仓广之 ;
清田满成 .
日本专利 :CN120019476A ,2025-05-16
[8]
半导体基板、半导体基板的制造方法以及制造装置、半导体器件的制造方法 [P]. 
神川刚 ;
青木优太 ;
武内一真 ;
正木克明 ;
山下文雄 .
日本专利 :CN119998924A ,2025-05-13
[9]
半导体元件基板及其制造方法、半导体器件 [P]. 
户田顺子 ;
马庭进 ;
塚本健人 .
中国专利 :CN102362345A ,2012-02-22
[10]
半导体器件及其制造方法和半导体基板 [P]. 
赤星年隆 .
中国专利 :CN101404270A ,2009-04-08