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一种硅片双面处理装置
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201820036649.2
申请日
:
2018-01-10
公开(公告)号
:
CN208100058U
公开(公告)日
:
2018-11-16
发明(设计)人
:
崔羽
阳军
吴会旭
李钊
申请人
:
申请人地址
:
215000 江苏省苏州市相城区太平街道聚金工业坊顺乐路
IPC主分类号
:
B24B27033
IPC分类号
:
B24B4100
B24B4106
B24B4720
B24B5100
B24B5506
代理机构
:
苏州市指南针专利代理事务所(特殊普通合伙) 32268
代理人
:
李先锋
法律状态
:
专利权的终止
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-12-20
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B 27/033 申请日:20180110 授权公告日:20181116 终止日期:20220110
2018-11-16
授权
授权
共 50 条
[1]
一种硅片双面处理装置
[P].
崔羽
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崔羽
;
阳军
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阳军
;
吴会旭
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吴会旭
;
李钊
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李钊
.
中国专利
:CN108067993A
,2018-05-25
[2]
一种硅片单面处理装置
[P].
李世磊
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李世磊
;
阳军
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阳军
;
吴会旭
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吴会旭
;
李钊
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李钊
.
中国专利
:CN207788486U
,2018-08-31
[3]
一种硅片单面处理装置
[P].
李世磊
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李世磊
;
阳军
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阳军
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吴会旭
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吴会旭
;
李钊
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李钊
.
中国专利
:CN108247455A
,2018-07-06
[4]
一种硅片表面处理装置
[P].
耿伟
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耿伟
;
顾少俊
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顾少俊
;
张西东
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张西东
;
周航
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周航
.
中国专利
:CN218363748U
,2023-01-24
[5]
一种硅片双面清洗机
[P].
姜涛
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姜涛
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阳军
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阳军
;
吴会旭
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吴会旭
;
李钊
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李钊
.
中国专利
:CN208225847U
,2018-12-11
[6]
硅片处理装置
[P].
左国军
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左国军
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成旭
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成旭
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邱瑞
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邱瑞
;
任金枝
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任金枝
.
中国专利
:CN212934566U
,2021-04-09
[7]
硅片处理装置及硅片处理系统
[P].
李文
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李文
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刘红
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刘红
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朱祝山
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朱祝山
;
高攀峰
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高攀峰
;
陈晓峰
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陈晓峰
.
中国专利
:CN208028027U
,2018-10-30
[8]
一种硅片毛刷除尘装置
[P].
何飞
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扬州新瑞光电科技有限公司
扬州新瑞光电科技有限公司
何飞
;
蔡鹏
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扬州新瑞光电科技有限公司
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蔡鹏
;
徐小萍
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扬州新瑞光电科技有限公司
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徐小萍
;
于帆
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扬州新瑞光电科技有限公司
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于帆
;
李亚楠
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扬州新瑞光电科技有限公司
扬州新瑞光电科技有限公司
李亚楠
.
中国专利
:CN222817431U
,2025-05-02
[9]
一种cmos硅片裂片的处理装置
[P].
黄福仁
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黄福仁
;
林勇
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林勇
;
陈轮兴
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陈轮兴
.
中国专利
:CN203746819U
,2014-07-30
[10]
一种大尺寸硅片双面抛光装置
[P].
祝斌
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祝斌
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武卫
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武卫
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刘建伟
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刘建伟
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刘园
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刘园
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刘姣龙
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刘姣龙
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裴坤羽
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裴坤羽
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杨春雪
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杨春雪
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由佰玲
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由佰玲
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孙晨光
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孙晨光
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王彦君
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王彦君
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常雪岩
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常雪岩
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谢艳
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谢艳
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袁祥龙
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张宏杰
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张宏杰
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刘秒
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刘秒
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吕莹
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吕莹
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徐荣清
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徐荣清
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中国专利
:CN214685873U
,2021-11-12
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