浅沟槽隔离结构的形成方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202110447808.4
申请日
2021-04-25
公开(公告)号
CN113223995A
公开(公告)日
2021-08-06
发明(设计)人
王飞飞 张继亮 李小康 王裕晓
申请人
申请人地址
214028 江苏省无锡市新吴区新洲路30号
IPC主分类号
H01L21762
IPC分类号
H01L21316
代理机构
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人
张彦敏
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
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形成浅沟槽隔离结构的方法和浅沟槽隔离结构 [P]. 
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