成像装置和校准方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201980076885.4
申请日
2019-12-09
公开(公告)号
CN113167656A
公开(公告)日
2021-07-23
发明(设计)人
古坂拓朗 河津直树 冈巧
申请人
申请人地址
日本神奈川县
IPC主分类号
G01K700
IPC分类号
G01K701 H01L27146 H04N5369 H04N53745
代理机构
北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290
代理人
梁兴龙;曹正建
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
成像装置和校准方法 [P]. 
古坂拓朗 ;
河津直树 ;
冈巧 .
日本专利 :CN113167656B ,2024-10-22
[2]
成像装置校准方法和成像装置校准仪表 [P]. 
J·M·迪卡洛 .
中国专利 :CN1943250A ,2007-04-04
[3]
成像元件、控制方法和成像装置 [P]. 
若林准人 .
中国专利 :CN103782587B ,2014-05-07
[4]
成像装置校准系统和方法 [P]. 
S·莫亚莱姆 ;
E·谢勒夫 ;
S·哈鲁什 ;
M·纳曼-齐夫 .
中国专利 :CN102203680A ,2011-09-28
[5]
磁共振系统校准方法、成像方法、校准装置及成像装置 [P]. 
黄文慧 ;
童立 .
中国专利 :CN115598572A ,2023-01-13
[6]
用于校准成像装置的方法和设备 [P]. 
卡林·米特科夫·阿塔纳索夫 ;
塞尔久·R·戈马 ;
维卡斯·拉马钱德兰 .
中国专利 :CN103649997B ,2014-03-19
[7]
成像装置和方法 [P]. 
刘坤 ;
郭先清 ;
傅璟军 .
中国专利 :CN108024035A ,2018-05-11
[8]
校准装置、成像装置、校准方法及图像重建方法 [P]. 
赵自然 ;
游燕 ;
金颖康 ;
张士新 ;
奉华成 .
中国专利 :CN117687100A ,2024-03-12
[9]
固态成像元件和固态成像装置 [P]. 
苏拉娅·希里尼 ;
上野贵久 ;
半泽克彦 .
中国专利 :CN111149351B ,2020-05-12
[10]
X射线成像装置和用于校准X射线成像装置的设备和方法 [P]. 
H-I·马克 ;
C·库尔策 .
中国专利 :CN101460098A ,2009-06-17