用于校准成像装置的方法和设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201280034341.X

申请日：

2012-06-08

公开(公告)号：

CN103649997B

公开(公告)日：

2014-03-19

发明(设计)人：

卡林·米特科夫·阿塔纳索夫塞尔久·R·戈马维卡斯·拉马钱德兰

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

G06T700

IPC分类号：

H04N1302

代理机构：

北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287

代理人：

宋献涛

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-04-16	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101581491670 IPC(主分类):G06T 7/00 专利申请号:201280034341X 申请日:20120608
2016-12-07	授权	授权
2014-03-19	公开	公开
2020-06-02	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G06T 7/00 申请日:20120608 授权公告日:20161207 终止日期:20190608

共 50 条

[1]

X射线成像装置和用于校准X射线成像装置的设备和方法 [P].

H-I·马克 ;

C·库尔策 .

中国专利 :CN101460098A ,2009-06-17

[2]

用于校准成像装置的方法及设备 [P].

塞尔久·R·戈马 ;

卡林·米特科夫·阿塔纳索夫 ;

维卡斯·拉马钱德兰 .

中国专利 :CN104685868B ,2015-06-03

[3]

成像装置校准方法和成像装置校准仪表 [P].

J·M·迪卡洛 .

中国专利 :CN1943250A ,2007-04-04

[4]

用于校准或测试成像装置的设备和方法 [P].

陈联福 ;

拉姆库玛·马林阿 ;

卢宏亮 ;

邓江汶 ;

郑希岚 .

中国专利 :CN111751807A ,2020-10-09

[5]

成像装置和校准方法 [P].

古坂拓朗 ;

河津直树 ;

冈巧 .

中国专利 :CN113167656A ,2021-07-23

[6]

成像装置和校准方法 [P].

古坂拓朗 ;

河津直树 ;

冈巧 .

日本专利 :CN113167656B ,2024-10-22

[7]

校准装置，用于校准的图表和校准方法 [P].

明官佳宏 .

中国专利 :CN113841384A ,2021-12-24

[8]

固态成像装置、用于制造固态成像装置的方法和成像设备 [P].

松谷弘康 .

中国专利 :CN101924114A ,2010-12-22

[9]

产生经校准的光谱成像装置的方法和设备 [P].

海基·萨利 ;

哈里·奥亚宁 ;

安蒂·纳斯拉 .

:CN119072613A ,2024-12-03

[10]

设备、成像装置、成像系统、用于控制设备的方法和程序 [P].

田代和也 .

中国专利 :CN102263984A ,2011-11-30

← 1 2 3 4 5 →