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成像装置和校准方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201980076885.4
申请日
:
2019-12-09
公开(公告)号
:
CN113167656B
公开(公告)日
:
2024-10-22
发明(设计)人
:
古坂拓朗
河津直树
冈巧
申请人
:
索尼半导体解决方案公司
申请人地址
:
日本神奈川县
IPC主分类号
:
G01K7/00
IPC分类号
:
G01K7/01
H01L27/146
H04N25/77
H04N25/75
H04N25/63
代理机构
:
北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290
代理人
:
梁兴龙;曹正建
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-10-22
授权
授权
共 50 条
[1]
成像装置和校准方法
[P].
古坂拓朗
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古坂拓朗
;
河津直树
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河津直树
;
冈巧
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冈巧
.
中国专利
:CN113167656A
,2021-07-23
[2]
成像装置校准方法和成像装置校准仪表
[P].
J·M·迪卡洛
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J·M·迪卡洛
.
中国专利
:CN1943250A
,2007-04-04
[3]
成像元件、控制方法和成像装置
[P].
若林准人
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若林准人
.
中国专利
:CN103782587B
,2014-05-07
[4]
成像装置校准系统和方法
[P].
S·莫亚莱姆
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S·莫亚莱姆
;
E·谢勒夫
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E·谢勒夫
;
S·哈鲁什
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S·哈鲁什
;
M·纳曼-齐夫
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M·纳曼-齐夫
.
中国专利
:CN102203680A
,2011-09-28
[5]
磁共振系统校准方法、成像方法、校准装置及成像装置
[P].
黄文慧
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黄文慧
;
童立
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童立
.
中国专利
:CN115598572A
,2023-01-13
[6]
用于校准成像装置的方法和设备
[P].
卡林·米特科夫·阿塔纳索夫
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卡林·米特科夫·阿塔纳索夫
;
塞尔久·R·戈马
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塞尔久·R·戈马
;
维卡斯·拉马钱德兰
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维卡斯·拉马钱德兰
.
中国专利
:CN103649997B
,2014-03-19
[7]
成像装置和方法
[P].
刘坤
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刘坤
;
郭先清
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郭先清
;
傅璟军
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傅璟军
.
中国专利
:CN108024035A
,2018-05-11
[8]
校准装置、成像装置、校准方法及图像重建方法
[P].
赵自然
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机构:
清华大学
清华大学
赵自然
;
游燕
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机构:
清华大学
清华大学
游燕
;
金颖康
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机构:
清华大学
清华大学
金颖康
;
张士新
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机构:
清华大学
清华大学
张士新
;
奉华成
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机构:
清华大学
清华大学
奉华成
.
中国专利
:CN117687100A
,2024-03-12
[9]
固态成像元件和固态成像装置
[P].
苏拉娅·希里尼
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苏拉娅·希里尼
;
上野贵久
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上野贵久
;
半泽克彦
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半泽克彦
.
中国专利
:CN111149351B
,2020-05-12
[10]
X射线成像装置和用于校准X射线成像装置的设备和方法
[P].
H-I·马克
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H-I·马克
;
C·库尔策
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C·库尔策
.
中国专利
:CN101460098A
,2009-06-17
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