硅片表面处理装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201310078834.X
申请日
2013-03-13
公开(公告)号
CN104051562A
公开(公告)日
2014-09-17
发明(设计)人
王大男 韩允
申请人
申请人地址
100026 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼
IPC主分类号
H01L3118
IPC分类号
代理机构
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274
代理人
申健
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
硅片表面的处理方法 [P]. 
苏晓平 ;
江彤 .
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[2]
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[3]
无损式自清洁硅片插片装置 [P]. 
孙铁囤 ;
姚伟忠 ;
汤平 .
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[4]
太阳能电池硅片的表面扩散处理工艺 [P]. 
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[5]
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[6]
基于机器视觉的原料硅片表面划痕检测装置 [P]. 
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[7]
一种硅片传输装置 [P]. 
程锋 ;
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[8]
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[9]
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[10]
单晶硅片表面的处理方法 [P]. 
刘万学 ;
程明辉 ;
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孙胜 ;
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