基于半波片的滚转角外差干涉测量装置及测量方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910862034.4

申请日：

2019-09-12

公开(公告)号：

CN110595393A

公开(公告)日：

2019-12-20

发明(设计)人：

乐燕芬金施嘉珞金涛

申请人：

申请人地址：

200093 上海市杨浦区军工路516号

IPC主分类号：

G01B1126

IPC分类号：

G01B902

代理机构：

上海德昭知识产权代理有限公司 31204

代理人：

郁旦蓉

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-03-11	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G01B 11/26 申请公布日:20191220
2020-01-14	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G01B 11/26 申请日:20190912
2019-12-20	公开	公开

共 50 条

[1]

基于半波片的衍射光栅外差干涉滚转角测量方法及装置 [P].

汤善治 ;

张霄猛 ;

于海涵 ;

何天 ;

杨嘉乐 .

中国专利 :CN118758217B ,2025-12-02

[2]

基于半波片的衍射光栅外差干涉滚转角测量方法及装置 [P].

汤善治 ;

张霄猛 ;

于海涵 ;

何天 ;

杨嘉乐 .

中国专利 :CN118758217A ,2024-10-11

[3]

光栅外差干涉系统及其滚转角测量方法 [P].

汤善治 ;

李明 ;

盛伟繁 ;

王赫影 .

中国专利 :CN108775878B ,2018-11-09

[4]

基于双闪耀光栅外差干涉的滚转角测量装置及方法 [P].

汤善治 ;

李明 ;

韩庆夫 ;

张伟伟 ;

盛伟繁 .

中国专利 :CN105806215A ,2016-07-27

[5]

光外差干涉测量装置和光外差干涉测量方法 [P].

加藤尚明 ;

泷口优 ;

田中博 .

日本专利 :CN118215835A ,2024-06-18

[6]

光外差干涉测量装置以及光外差干涉测量方法 [P].

加藤尚明 ;

泷口优 ;

田中博 .

日本专利 :CN121219570A ,2025-12-26

[7]

一种高分辨率光栅外差干涉滚转角测量方法及装置 [P].

汤善治 ;

张霄猛 ;

于海涵 ;

何天 ;

杨嘉乐 .

中国专利 :CN118687507A ,2024-09-24

[8]

基于倾斜折叠高反镜的外差干涉法滚转角测量装置及方法 [P].

王昭 ;

齐静雅 ;

黄军辉 ;

高建民 ;

余宝 .

中国专利 :CN105444698A ,2016-03-30

[9]

滚转角测量单元及测量方法 [P].

杨少峰 ;

付昌虎 ;

何永革 ;

由浩 ;

邢靖虹 .

中国专利 :CN105737793B ,2016-07-06

[10]

基于外差干涉相位法的高分辨率滚转角测量方法及装置 [P].

王昭 ;

高建民 ;

黄军辉 ;

李朝辉 ;

郭俊杰 .

中国专利 :CN104180776A ,2014-12-03

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