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一种反应腔结构及其半导体设备
被引：0
申请号：
CN202211140257.8
申请日：
2022-09-20
公开(公告)号：
CN115261820B
公开(公告)日：
2023-01-20
发明(设计)人：
刘润哲
金基烈
吴凤丽
刘振
申请人：
申请人地址：
201306 上海市浦东新区中国（上海）自由贸易试验区临港新片区鸿音路1211号10幢304室
IPC主分类号：
C23C1644
IPC分类号：
C23C16448
C23C16455
H01L2167
代理机构：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463
代理人：
姜波
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2023-01-20 | 授权 | 授权 |
| 2022-11-18 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/44 申请日:20220920 |