增强微波与等离子体耦合率的谐振腔及微波等离子体装置
发明(设计)人:
阮存军
刘静
戴军
孔德胤
李仁杰
申请人地址:
100191 北京市海淀区学院路37号
代理机构:
北京路浩知识产权代理有限公司 11002
法律状态
| 2020-06-26 |
授权
| 授权 |
| 2018-09-14 |
公开
| 公开 |
共 50 条
[5]
微波等离子体发生装置、微波等离子体处理装置和微波等离子体处理方法
[P].
中川清和
论文数: 0 引用数: 0
h-index: 0
机构:
株式会社阿比特技术
株式会社阿比特技术
中川清和
;
宇佐美由久
论文数: 0 引用数: 0
h-index: 0
机构:
株式会社阿比特技术
株式会社阿比特技术
宇佐美由久
.
日本专利 :CN119586328A ,2025-03-07 [7]
等离子体谐振腔装置
[P].
中国专利 :CN1292624C ,2005-03-02 [10]
微波等离子体反应腔
[P].
中国专利 :CN101123844A ,2008-02-13