用于对微特征工件的机械与/或化学－机械抛光的系统和方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200480016663.7

申请日：

2004-04-26

公开(公告)号：

CN1805824A

公开(公告)日：

2006-07-19

发明(设计)人：

詹森·B·埃勒德基

申请人：

申请人地址：

美国艾达荷

IPC主分类号：

B24B3704

IPC分类号：

B24B4106 B24B4916

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

刘晓峰

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2006-09-13	实质审查的生效	实质审查的生效
2006-07-19	公开	公开
2009-09-09	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回

共 50 条

[1]

用于对微特征工件机械和/或化学－机械抛光的方法和包括下垫的抛光机 [P].

詹森·B·埃勒德基 .

中国专利 :CN1805823A ,2006-07-19

[2]

用于化学机械抛光的监测方法和化学机械抛光设备 [P].

路新春 ;

王同庆 ;

慈慧 ;

梁清波 ;

徐海洋 ;

谭锐 .

中国专利 :CN117718876B ,2024-06-18

[3]

用于化学机械抛光的监测方法和化学机械抛光设备 [P].

路新春 ;

王同庆 ;

慈慧 ;

梁清波 ;

徐海洋 ;

谭锐 .

中国专利 :CN117718876A ,2024-03-19

[4]

用于化学机械抛光的浆料和化学机械抛光方法 [P].

加藤充 ;

冈本知大 ;

加藤晋哉 .

中国专利 :CN104471684A ,2015-03-25

[5]

化学机械抛光装置和化学机械抛光方法 [P].

铃木三惠子 ;

土屋泰章 .

中国专利 :CN1098746C ,1999-09-01

[6]

化学机械抛光设备和化学机械抛光方法 [P].

唐强 .

中国专利 :CN108115553A ,2018-06-05

[7]

用于化学机械抛光的承载头和用于化学机械抛光的系统 [P].

史蒂文·M·苏尼加 ;

杰伊·古鲁萨米 ;

安德鲁·J·纳甘盖斯特 .

中国专利 :CN214135511U ,2021-09-07

[8]

用于化学机械抛光的抛光浆液和方法 [P].

苏尼尔·钱德拉·扎 ;

斯里哈瑞·妮玛拉 ;

沙拉斯·海格德 ;

S·V·巴布 ;

尤达雅·B·帕特里 ;

洪荣基 .

中国专利 :CN101103089B ,2008-01-09

[9]

化学机械抛光装置及化学机械抛光的方法 [P].

陈枫 .

中国专利 :CN103624673B ,2014-03-12

[10]

化学机械抛光垫的抛光层的制备方法和化学机械抛光垫 [P].

梅英杰 ;

鲁航 ;

王凯 ;

田骐源 ;

袁文杰 ;

高彦升 ;

闫晨凯 .

中国专利 :CN118721051B ,2025-08-29

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