等离子体增强化学气相沉积装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201710835560.2

申请日：

2017-09-15

公开(公告)号：

CN107675144A

公开(公告)日：

2018-02-09

发明(设计)人：

张佳纯

申请人：

申请人地址：

430070 湖北省武汉市武汉东湖开发区高新大道666号生物城C5栋

IPC主分类号：

C23C16513

IPC分类号：

C23C1646

代理机构：

广州三环专利商标代理有限公司 44202

代理人：

郝传鑫;熊永强

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-02-09	公开	公开
2018-03-09	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/513 申请日:20170915
2021-09-03	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):C23C 16/513 申请公布日:20180209

共 50 条

[1]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

陈金元 ;

刘传生 .

中国专利 :CN101974738A ,2011-02-16

[2]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

韦刚 .

中国专利 :CN101880867A ,2010-11-10

[3]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

苏同上 ;

王东方 ;

杜生平 ;

袁广才 .

中国专利 :CN205556778U ,2016-09-07

[4]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

何艾华 ;

朱太荣 ;

张武 .

中国专利 :CN119876915A ,2025-04-25

[5]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

何怀亮 .

中国专利 :CN207918951U ,2018-09-28

[6]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

刘凤举 .

中国专利 :CN106245005A ,2016-12-21

[7]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

姜宇锡 .

中国专利 :CN213142185U ,2021-05-07

[8]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

陈金元 ;

马哲国 ;

董家伟 ;

刘传生 ;

杨飞云 .

中国专利 :CN101974739A ,2011-02-16

[9]

用于等离子体增强化学气相沉积的设备 [P].

马建奎 .

中国专利 :CN204982047U ,2016-01-20

[10]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

姜杉 ;

李建东 ;

杨志永 .

中国专利 :CN201587981U ,2010-09-22

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