用于在铝上沉积钛基保护涂层的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680073796.0

申请日：

2016-12-07

公开(公告)号：

CN108368632A

公开(公告)日：

2018-08-03

发明(设计)人：

J·博维尔 C·罗森克兰茨 J·P·戈尔丁

申请人：

申请人地址：

德国杜塞尔多夫

IPC主分类号：

C25D906

IPC分类号：

C25D1102 F02F300

代理机构：

永新专利商标代理有限公司 72002

代理人：

于辉

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-09-25	授权	授权
2018-08-03	公开	公开
2019-01-11	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C25D 9/06 申请日:20161207

共 50 条

[1]

用于在航空部件上沉积牺牲涂层的方法 [P].

苏克蒂·查特吉 ;

大野贤一 ;

兰斯·A·斯卡德尔 ;

尤里·梅尔尼克 ;

大卫·A·布里兹 ;

普拉文·K·纳万克尔 ;

托马斯·奈斯利 ;

马克·沙丽 ;

杰弗里·安西斯 .

中国专利 :CN114008236A ,2022-02-01

[2]

用于在衬底上沉积具有较高介电常数的涂层的方法 [P].

J·常 ;

Y·－S·林 ;

A·凯普滕 ;

M·森德勒 ;

S·莱维 ;

R·布洛姆 .

中国专利 :CN1498285A ,2004-05-19

[3]

在刀具上沉积细粒氧化铝涂层的方法 [P].

克里斯蒂娜·特施纳 ;

因戈尔夫·恩德勒 ;

阿尔布雷克特·莱昂哈特 ;

比约恩·永贝里 ;

马茨·舍斯特兰德 .

中国专利 :CN1280632A ,2001-01-17

[4]

用于工艺环上的稀土氧化物基薄膜涂层的离子辅助沉积 [P].

J·Y·孙 ;

B·P·卡农戈 ;

V·菲鲁兹多尔 ;

Y·张 .

中国专利 :CN105378900A ,2016-03-02

[5]

用于半导体处理室部件的钇铝钙钛矿(YAP)基涂层 [P].

埃里克·A·佩普 ;

大卫·约瑟夫·韦策尔 ;

许临 ;

萨蒂什·斯里尼瓦桑 ;

罗宾·科什伊 ;

道格拉斯·德特尔特 ;

耶利米亚·迈克尔·德德里克 .

美国专利 :CN117795641A ,2024-03-29

[6]

在半导体衬底上溅射保护涂层的方法 [P].

金智洙 ;

宋政 ;

严必明 ;

彼得·勒文哈德 .

中国专利 :CN1814857A ,2006-08-09

[7]

在移动基材上沉积富碳涂层的方法和装置 [P].

莫西斯·M·戴维德 ;

唐讷德·J·麦克拉瑞 ;

斯蒂芬·P·马其 .

中国专利 :CN1235647A ,1999-11-17

[8]

经构造以用于在基板上溅射沉积的设备、经构造以用于在基板上溅射沉积的系统和用于在基板上溅射沉积的方法 [P].

约翰·M·怀特 .

中国专利 :CN108350563A ,2018-07-31

[9]

在基板上沉积材料的方法 [P].

M.伦德尔 ;

R.格鲁亚 .

英国专利 :CN114930495B ,2025-11-04

[10]

在基板上沉积材料的方法 [P].

安科·赫尔密西 .

中国专利 :CN114008741A ,2022-02-01

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