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半导体结构及其形成方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201110459412.8
申请日
:
2011-12-31
公开(公告)号
:
CN103187448B
公开(公告)日
:
2013-07-03
发明(设计)人
:
倪景华
李凤莲
申请人
:
申请人地址
:
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
:
H01L2978
IPC分类号
:
H01L21336
代理机构
:
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
:
骆苏华
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2016-03-16
授权
授权
2013-07-31
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101499124348 IPC(主分类):H01L 29/78 专利申请号:2011104594128 申请日:20111231
2013-07-03
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体结构及其形成方法
[P].
倪景华
论文数:
0
引用数:
0
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0
倪景华
;
李凤莲
论文数:
0
引用数:
0
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0
李凤莲
.
中国专利
:CN103187449B
,2013-07-03
[2]
半导体结构及其形成方法
[P].
三重野文健
论文数:
0
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0
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0
三重野文健
.
中国专利
:CN104617093B
,2015-05-13
[3]
半导体结构及其形成方法
[P].
景友亮
论文数:
0
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0
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0
机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
景友亮
.
中国专利
:CN113764279B
,2024-11-01
[4]
半导体结构及其形成方法
[P].
景友亮
论文数:
0
引用数:
0
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0
景友亮
.
中国专利
:CN113764279A
,2021-12-07
[5]
半导体结构及其形成方法
[P].
丁亚
论文数:
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0
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机构:
中芯国际集成电路制造(天津)有限公司
中芯国际集成电路制造(天津)有限公司
丁亚
;
杨林宏
论文数:
0
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机构:
中芯国际集成电路制造(天津)有限公司
中芯国际集成电路制造(天津)有限公司
杨林宏
;
张艳红
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0
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0
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机构:
中芯国际集成电路制造(天津)有限公司
中芯国际集成电路制造(天津)有限公司
张艳红
;
杜义琛
论文数:
0
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0
机构:
中芯国际集成电路制造(天津)有限公司
中芯国际集成电路制造(天津)有限公司
杜义琛
;
陈秋颖
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0
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0
机构:
中芯国际集成电路制造(天津)有限公司
中芯国际集成电路制造(天津)有限公司
陈秋颖
.
中国专利
:CN117672973A
,2024-03-08
[6]
半导体结构及其形成方法
[P].
景友亮
论文数:
0
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0
机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
景友亮
.
中国专利
:CN113823688B
,2025-05-02
[7]
半导体结构及其形成方法
[P].
陈天锐
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机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
陈天锐
.
中国专利
:CN118785689A
,2024-10-15
[8]
半导体结构及其形成方法
[P].
黄兴凯
论文数:
0
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机构:
中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
黄兴凯
.
中国专利
:CN118632531A
,2024-09-10
[9]
半导体结构及其形成方法
[P].
郑二虎
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郑二虎
;
陈卓凡
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陈卓凡
;
苏博
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苏博
.
中国专利
:CN114530501A
,2022-05-24
[10]
半导体结构及其形成方法
[P].
刘金华
论文数:
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0
刘金华
.
中国专利
:CN104900501A
,2015-09-09
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