多级磁场电弧离子镀和孪生靶中频磁控溅射复合沉积方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610300074.6

申请日：

2016-05-06

公开(公告)号：

CN105734501A

公开(公告)日：

2016-07-06

发明(设计)人：

魏永强宗晓亚侯军兴魏永辉刘源蒋志强符寒光

申请人：

申请人地址：

450015 河南省郑州市二七区大学中路2号郑州航院家属院26号楼4单元2楼南户

IPC主分类号：

C23C1432

IPC分类号：

C23C1435

代理机构：

代理人：

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-07-06	公开	公开
2016-08-03	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101672621077 IPC(主分类):C23C 14/32 专利申请号:2016103000746 申请日:20160506

共 50 条

[1]

多级磁场电弧离子镀和射频磁控溅射复合沉积方法 [P].

魏永强 ;

宗晓亚 ;

蒋志强 ;

吴忠振 ;

刘源 .

中国专利 :CN104975263A ,2015-10-14

[2]

多级磁场离子镀和孪生靶高功率脉冲磁控溅射复合方法 [P].

魏永强 ;

宗晓亚 ;

魏永辉 ;

吴忠振 ;

侯军兴 ;

蒋志强 ;

符寒光 .

中国专利 :CN105908135A ,2016-08-31

[3]

多级磁场电弧离子镀和高功率脉冲磁控溅射复合沉积方法 [P].

魏永强 ;

宗晓亚 ;

蒋志强 ;

吴忠振 ;

侯军兴 .

中国专利 :CN104947046B ,2015-09-30

[4]

电弧离子镀和孪生靶双极性高功率脉冲磁控溅射复合方法 [P].

魏永强 ;

宗晓亚 ;

魏永辉 ;

侯军兴 ;

蒋志强 ;

符寒光 .

中国专利 :CN105803411A ,2016-07-27

[5]

电弧离子镀和高功率脉冲磁控溅射复合的沉积方法 [P].

魏永强 ;

宗晓亚 ;

蒋志强 ;

吴忠振 .

中国专利 :CN104862653A ,2015-08-26

[6]

组合磁场的电弧离子镀与孪生靶高功率脉冲磁控溅射方法 [P].

魏永强 ;

王好平 ;

宗晓亚 ;

侯军兴 ;

刘源 ;

蒋志强 .

中国专利 :CN109989027A ,2019-07-09

[7]

活动磁场的电弧离子镀与孪生靶高功率脉冲磁控溅射方法 [P].

魏永强 ;

王好平 ;

宗晓亚 ;

侯军兴 ;

张华阳 ;

蒋志强 .

中国专利 :CN109989041A ,2019-07-09

[8]

活动磁场电弧离子镀与高功率脉冲磁控溅射复合沉积方法 [P].

魏永强 ;

王好平 ;

宗晓亚 ;

张新国 ;

刘学申 ;

蒋志强 .

中国专利 :CN109989030A ,2019-07-09

[9]

组合磁场电弧离子镀与高功率脉冲磁控溅射复合沉积方法 [P].

魏永强 ;

王好平 ;

宗晓亚 ;

张华阳 ;

侯军兴 ;

蒋志强 .

中国专利 :CN109989009A ,2019-07-09

[10]

传输方向可调式的多级磁场电弧离子镀方法 [P].

魏永强 ;

宗晓亚 ;

吴忠振 ;

蒋志强 .

中国专利 :CN105088150A ,2015-11-25

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