碳化硅衬底用抛光液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010619397.4

申请日：

2010-12-31

公开(公告)号：

CN102533124A

公开(公告)日：

2012-07-04

发明(设计)人：

储耀卿施尔畏

申请人：

申请人地址：

201800 上海市嘉定区城北路215号

IPC主分类号：

C09G102

IPC分类号：

H01L21306

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

樊云飞

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-12-10	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101708438538 IPC(主分类):C09G 1/02 专利申请号:2010106193974 申请公布日:20120704
2012-07-04	公开	公开
2012-09-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101322524135 IPC(主分类):C09G 1/02 专利申请号:2010106193974 申请日:20101231

共 50 条

[1]

一种碳化硅衬底用抛光液及其制备方法 [P].

张成荣 ;

刘江华 ;

刘冠华 ;

彭勇 ;

朱生凯 .

中国专利 :CN120966369A ,2025-11-18

[2]

碳化硅基片的抛光液 [P].

周海 .

中国专利 :CN101724344A ,2010-06-09

[3]

一种碳化硅衬底粗抛用氧化铝抛光液及其制备方法 [P].

陈森军 ;

许亚杰 ;

张瑞敏 .

中国专利 :CN118909551A ,2024-11-08

[4]

一种碳化硅晶片的抛光液 [P].

詹琳 .

中国专利 :CN105647393A ,2016-06-08

[5]

多晶碳化硅衬底抛光剂、抛光方法及多晶碳化硅衬底 [P].

郭超 ;

母文凤 .

中国专利 :CN117304814B ,2024-03-12

[6]

一种用于碳化硅衬底片CMP抛光液的制备方法 [P].

宋伟红 ;

宋菁 ;

席啸林 ;

蔡庆东 ;

赵梦亦宋 .

中国专利 :CN117866536A ,2024-04-12

[7]

一种含铁的碳化硅衬底抛光液 [P].

张建 ;

巩强 ;

林向阳 ;

周水晶 ;

王凯慧 .

中国专利 :CN118562392A ,2024-08-30

[8]

碳化硅抛光液过滤设备 [P].

孔云龙 ;

张辉 .

中国专利 :CN220968380U ,2024-05-17

[9]

一种用于单晶碳化硅衬底精抛的CMP抛光液及其制备方法 [P].

牛娟娟 ;

罗浩宁 ;

孙蕊蕊 ;

火雅茹 ;

王海成 ;

陈正磊 .

中国专利 :CN117987015A ,2024-05-07

[10]

一种LED衬底片用的蓝宝石或碳化硅晶片的表面处理用的化学机械抛光液及其制备方法 [P].

储耀卿 ;

徐家跃 .

中国专利 :CN102888193A ,2013-01-23

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