一种化学气相沉积系统

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201320436496.8

申请日：

2013-07-22

公开(公告)号：

CN203360573U

公开(公告)日：

2013-12-25

发明(设计)人：

戴煜胡祥龙胡高健

申请人：

申请人地址：

410118 湖南省长沙市长沙县暮云镇工业园区内湖南顶立科技有限公司

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

C23C1644

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

王宝筠

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-12-25	授权	授权

共 50 条

[1]

一种化学气相沉积系统 [P].

张建飞 ;

何思进 ;

盛兆亚 ;

吴兴华 .

中国专利 :CN215947403U ,2022-03-04

[2]

化学气相沉积系统 [P].

胡丹 ;

朱刘 ;

余明 .

中国专利 :CN210104068U ,2020-02-21

[3]

化学气相沉积系统 [P].

赵嘉峰 ;

陈飞 ;

项辉 .

中国专利 :CN217895750U ,2022-11-25

[4]

一种化学气相沉积系统 [P].

郭国平 ;

杨晖 ;

李海欧 ;

曹刚 ;

肖明 ;

郭光灿 .

中国专利 :CN206607312U ,2017-11-03

[5]

一种化学气相沉积系统 [P].

郭国平 ;

杨晖 ;

李海欧 ;

曹刚 ;

肖明 ;

郭光灿 .

中国专利 :CN106676498B ,2017-05-17

[6]

化学气相沉积系统、化学气相沉积系统的装置和化学气相沉积方法 [P].

N·P·德斯科维奇 ;

W·D·格罗夫 .

中国专利 :CN105369211A ,2016-03-02

[7]

化学气相沉积装置及化学气相沉积系统 [P].

杨耀辉 ;

胡文华 ;

梅治民 ;

王维维 ;

俞方旭 ;

席洪峰 ;

罗治湘 .

中国专利 :CN118086872A ,2024-05-28

[8]

化学气相沉积系统 [P].

南琦 ;

刘瑞 ;

邓敏 .

中国专利 :CN209162187U ,2019-07-26

[9]

化学气相沉积系统 [P].

方建中 ;

杨成傑 ;

郑祥炬 .

中国专利 :CN103374709A ,2013-10-30

[10]

化学气相沉积系统 [P].

钟瑞伦 ;

吴俊鹏 .

中国专利 :CN211522317U ,2020-09-18

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